| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 研究背景 | 第21-56页 |
| 1.1 pentasil分子筛 | 第21-23页 |
| 1.1.1 pentasil分子筛结构 | 第21页 |
| 1.1.2 烃裂化和烃合成中ZSM-5增产低碳烯烃 | 第21-23页 |
| 1.2 分子筛的多级孔策略 | 第23-40页 |
| 1.2.1 直接合成法 | 第25-31页 |
| 1.2.2 后处理法 | 第31-32页 |
| 1.2.3 多级孔ZSM-5分子筛的催化应用 | 第32-39页 |
| 1.2.4 多级孔ZSM-5分子筛面临的挑战 | 第39-40页 |
| 1.3 分子筛稳定性的提高 | 第40-43页 |
| 1.3.1 高硅体系 | 第40-41页 |
| 1.3.2 磷元素稳化 | 第41-43页 |
| 1.4 选题意义及论文思路 | 第43-45页 |
| 1.5 参考文献 | 第45-56页 |
| 第2章 实验总述 | 第56-62页 |
| 2.1 主要原料试剂 | 第56-58页 |
| 2.2 材料表征方法 | 第58-59页 |
| 2.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第58页 |
| 2.2.2 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES) | 第58页 |
| 2.2.3 扫描电镜(SEM) | 第58页 |
| 2.2.4 透射电镜(TEM&HAADF-STEM) | 第58页 |
| 2.2.5 程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第58页 |
| 2.2.6 热重-差热分析(TG-DTG) | 第58-59页 |
| 2.2.7 低温氮气吸附脱附 | 第59页 |
| 2.2.8 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第59页 |
| 2.2.9 魔角核磁共振(~(31)P MAS NMR和~(27)Al MAS NMR) | 第59页 |
| 2.3 催化性能评价 | 第59-62页 |
| 2.3.1 固定床连续反应 | 第59-60页 |
| 2.3.2 固定床脉冲反应 | 第60-61页 |
| 2.3.3 聚合物催化降解反应 | 第61页 |
| 2.3.4 缩酮反应和缩醛反应 | 第61-62页 |
| 第3章 C_6链胺作为单一模板剂可控合成多级孔分子筛 | 第62-103页 |
| 3.1 引言 | 第62-63页 |
| 3.2 实验部分 | 第63-64页 |
| 3.2.1 自组装ZSM-5微球粒子的合成 | 第63页 |
| 3.2.2 长片ZSM-5分子筛的合成 | 第63-64页 |
| 3.2.3 参比样品合成 | 第64页 |
| 3.3 正己胺导向合成自组装ZSM-5微球粒子 | 第64-77页 |
| 3.3.1 合成条件优化 | 第64-70页 |
| 3.3.2 催化性能评价 | 第70-77页 |
| 3.4 C_6链胺合成微球状多级孔分子筛 | 第77-84页 |
| 3.4.1 不同C_6链胺合成微球状多级孔分子筛的性状表征 | 第77-78页 |
| 3.4.2 C_6伯胺导向合成微球状多级孔分子筛晶化行为差异 | 第78-83页 |
| 3.4.3 生长机理构想与解释 | 第83-84页 |
| 3.5 高铝分子筛的抽铝补硅 | 第84-87页 |
| 3.5.1 实验部分 | 第84-85页 |
| 3.5.2 处理条件的优化 | 第85-87页 |
| 3.6 正己胺体系下晶种辅助法合成高硅ZSM-5片状粒子 | 第87-90页 |
| 3.6.1 合成条件优化-硅铝比的影响 | 第87-88页 |
| 3.6.2 合成条件优化-碱硅比的影响 | 第88-89页 |
| 3.6.3 合成条件优化-晶种含量的影响 | 第89页 |
| 3.6.4 合成条件优化-晶化条件的影响 | 第89-90页 |
| 3.7 扩散性能与催化性能关联 | 第90-96页 |
| 3.7.1 参比样品的合成 | 第90-91页 |
| 3.7.2 样品特性 | 第91-93页 |
| 3.7.3 催化性能评价 | 第93-96页 |
| 3.8 本章小结 | 第96-98页 |
| 3.9 参考文献 | 第98-103页 |
| 第4章 新型后处理对高硅分子筛水热稳定性和催化性能的影响 | 第103-150页 |
| 4.1 引言 | 第103页 |
| 4.2 工业母体分子筛的制备 | 第103-104页 |
| 4.2.1 晶种的制备 | 第103-104页 |
| 4.2.2 母体分子筛的合成 | 第104页 |
| 4.3 超高硅分子筛的碱处理参数优化 | 第104-107页 |
| 4.4 高硅分子筛的碱处理参数优化 | 第107页 |
| 4.5 脱硅和无机磷(NH_4)_2HPO_4修饰联合处理 | 第107-132页 |
| 4.5.1 超高硅体系下的脱硅和(NH_4)_2HPO_4修饰联合处理 | 第107-122页 |
| 4.5.2 高硅体系下的脱硅和(NH_4)_2HPO_4修饰联合处理 | 第122-130页 |
| 4.5.3 无机磷元素稳化介孔分子筛的模型机理 | 第130-132页 |
| 4.6 有机磷参与的含磷多级孔分子筛的制备 | 第132-144页 |
| 4.6.1 一步后处理法制备含磷多级孔分子筛 | 第132-141页 |
| 4.6.2 有机磷模板剂参与合成的高硅分子筛的脱硅 | 第141-144页 |
| 4.7 本章小结 | 第144-145页 |
| 4.8 参考文献 | 第145-150页 |
| 第5章 纯硅多级孔分子筛的酸性修饰—制备高硅多级孔分子筛的新型策略与展望 | 第150-170页 |
| 5.1 引言 | 第150-151页 |
| 5.2 纯硅多级孔分子筛的合成 | 第151-155页 |
| 5.2.1 实验过程 | 第151页 |
| 5.2.2 结果与讨论 | 第151-155页 |
| 5.3 纯硅多级孔分子筛的酸性引入——"游离铝骨架化" | 第155-165页 |
| 5.3.1 实验过程 | 第155-156页 |
| 5.3.2 分子筛性能表征 | 第156-161页 |
| 5.3.3 催化性能表征 | 第161-165页 |
| 5.4 本章小结 | 第165-167页 |
| 5.5 参考文献 | 第167-170页 |
| 第6章 论文总结及主要创新点 | 第170-173页 |
| 6.1 论文的主要结论 | 第170-171页 |
| 6.2 论文主要创新点 | 第171-172页 |
| 6.3 论文不足及今后工作的建议 | 第172-173页 |
| 作者简历 | 第173-174页 |
| 基本信息 | 第173页 |
| 教育背景 | 第173-174页 |
| 学习期间科研成果 | 第174-176页 |
| 致谢 | 第176页 |
