致谢 | 第1-7页 |
摘要 | 第7-8页 |
Abstract | 第8-15页 |
1 绪论 | 第15-20页 |
·研究背景、目的及创新点 | 第15-16页 |
·高压简介 | 第16-17页 |
·高压合成及其对材料的影响 | 第17-18页 |
·高压合成 | 第17页 |
·高压合成对材料的影响 | 第17-18页 |
·高气压简介 | 第18-20页 |
·高气压及其产生原理 | 第18-19页 |
·高气压在材料科学中的应用与研究 | 第19-20页 |
2 实验装置及表征 | 第20-26页 |
·主要原料及仪器 | 第20页 |
·实验分析及表征 | 第20-23页 |
·X 射线衍射分析 | 第20页 |
·振动样品磁强计 | 第20-21页 |
·透射电子显微镜及能谱分析 | 第21页 |
·X 射线光电子能谱 | 第21页 |
·电子探针 X 射线显微分析 | 第21-22页 |
·紫外-可见分光光度计 | 第22页 |
·超导量子干涉仪 | 第22-23页 |
·高气压热处理装置 | 第23-26页 |
·高气压高温反应装置 | 第23-24页 |
·泵增压高气压热处理装置 | 第24-26页 |
3 高气压高温反应装置制备 Fe/FeS 颗粒及其性能 | 第26-34页 |
·引言 | 第26-27页 |
·磁性(纳米)催化剂 | 第26页 |
·硫化亚铁及其制备和应用 | 第26-27页 |
·实验过程与样品表征 | 第27-29页 |
·实验过程 | 第27-28页 |
·样品表征 | 第28-29页 |
·结果分析与讨论 | 第29-33页 |
·物相分析 | 第29页 |
·形貌与成分分析 | 第29-30页 |
·磁性能分析 | 第30-31页 |
·光催化性能 | 第31-32页 |
·磁性光催化剂的回收 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
4 高气压高温反应装置制备 MnP 及 Mn-P-N 化合物 | 第34-45页 |
·引言 | 第34-35页 |
·磁制冷技术 | 第34页 |
·磁制冷材料的发展及研究现状 | 第34-35页 |
·实验目的及方案 | 第35-36页 |
·实验过程与样品表征 | 第36-37页 |
·实验过程 | 第36-37页 |
·样品表征 | 第37页 |
·结果分析与讨论 | 第37-44页 |
·物相与成分 | 第37-39页 |
·磁性能 | 第39-41页 |
·磁热效应 | 第41-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
5 高气压热处理制备锰氧化合物 | 第45-59页 |
·引言 | 第45-46页 |
·实验过程与样品表征 | 第46-47页 |
·实验过程 | 第46页 |
·样品表征 | 第46-47页 |
·结果分析与讨论 | 第47-58页 |
·物相与成分 | 第47-49页 |
·形貌与成分 | 第49-54页 |
·磁性能 | 第54-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
6 离子注入氮掺杂二氧化钛薄膜制备及其光催化性能研究 | 第59-66页 |
·引言 | 第59-61页 |
·二氧化钛及其氮掺杂改性研究现状 | 第59-60页 |
·离子注入技术 | 第60-61页 |
·实验过程与样品表征 | 第61-62页 |
·实验过程 | 第61页 |
·样品表征 | 第61-62页 |
·结果分析与讨论 | 第62-65页 |
·离子注入氮掺杂后薄膜结构分析 | 第62-63页 |
·离子注入氮掺杂后薄膜表面化学态分析 | 第63-64页 |
·离子注入氮掺杂后薄膜的光催化性能分析 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
7 结论与展望 | 第66-67页 |
·结论 | 第66页 |
·展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-73页 |
作者简历 | 第73页 |