| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 引言 | 第8-11页 |
| ·研究背景 | 第8-9页 |
| ·研究方法 | 第9-11页 |
| 2 知识产权损害赔偿评估概述 | 第11-19页 |
| ·知识产权损害赔偿的基本理论问题 | 第11-14页 |
| ·知识产权损害赔偿评估的特点 | 第14-16页 |
| ·现行知识产权评估方法概述及评析 | 第16-19页 |
| 3 知识产权损害法定赔偿制度概述 | 第19-31页 |
| ·我国现行法律对知识产权损害赔偿额的规定 | 第19-23页 |
| ·其它国家及地区关于知识产权损害赔偿数额的规定 | 第23-27页 |
| ·现行知识产权侵权损害赔偿额计算方法的不足 | 第27-31页 |
| 4 我国知识产权损害赔偿评估制度的完善 | 第31-41页 |
| ·完善我国知识产权损害赔偿评估制度的必要性 | 第31-32页 |
| ·我国知识产权损害赔偿评估制度的完善 | 第32-39页 |
| ·武汉晶源公司案实证分析 | 第39-41页 |
| 结语 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |