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SOI SiGe HBT性能与结构设计研究

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·SOI SiGe技术必要性第11-13页
   ·国内外发展状况第13-18页
   ·本论文研究目的和意义第18-19页
   ·本文主要研究工作第19-21页
   ·本章小结第21-23页
第二章 应变SiGe基本物理特性研究第23-41页
   ·应变SiGe形成及特点第23-31页
   ·仿真结构与模型设定第31-39页
     ·器件结构定义第32页
     ·基础物理模型第32-33页
     ·材料模型设定第33-39页
   ·本章小结第39-41页
第三章 SOI SiGe HBT性能分析研究第41-51页
   ·器件主要参数分析第41-45页
   ·SOI SiGe HBT性能研究第45-49页
   ·本章小结第49-51页
第四章 SOI SiGe HBT电学模型研究第51-107页
   ·SOI SiGe HBT集电结理论模型第51-60页
     ·SOI SiGe HBT器件结构及等效电路第51-52页
     ·部分耗尽HBT集电结纵向空间电荷区模型第52-54页
     ·部分耗尽HBT集电结横向空间电荷区模型第54-55页
     ·结果与分析第55-60页
     ·本节小结第60页
   ·SOI SiGe HBT集电结耗尽层电容模型第60-70页
     ·集电结理想耗尽层电容推导第61-62页
     ·集电结理想耗尽层电容讨论第62-65页
     ·集电结实际耗尽层电荷和电容模型第65-68页
     ·集电结实际耗尽层电荷和电容讨论第68-70页
   ·SOI SiGe HBT Early电压模型第70-83页
     ·Si BJT Early效应第70-73页
     ·常规SiGe HBT Early效应第73-78页
     ·SOI SiGe HBT Early效应第78-83页
     ·本节小结第83页
   ·SOI SiGe HBT雪崩倍增效应第83-93页
     ·部分耗尽SOI SiGe HBT雪崩倍增效应第85-89页
     ·全部耗尽SOI SiGe HBT雪崩倍增效应第89-93页
   ·基区渡越时间第93-100页
     ·Si BJT基区渡越时间第94-97页
     ·SOI SiGe HBT基区渡越时间第97-100页
   ·衬底偏置效应第100-106页
     ·衬底偏压对集电区电阻影响第100-105页
     ·本节小结第105-106页
   ·本章小结第106-107页
第五章 SOI SiGe HBT大电流模型研究第107-115页
   ·大电流模型第108-110页
   ·SOI SiGe HBT大电流模型分析第110-113页
   ·本章小结第113-115页
第六章 SOI SiGe HBT结构设计研究第115-129页
   ·器件结构仿真第115-127页
     ·与常规SiGe HBT比较第121-122页
     ·衬底偏置第122-123页
     ·材料物理参数第123-125页
     ·几何物理参数第125-127页
     ·设计讨论第127页
   ·本章小结第127-129页
第七章 结论第129-131页
致谢第131-133页
参考文献第133-153页
攻博期间研究成果第153-154页

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