| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·柯肯达尔空洞的定义及其演变 | 第12-14页 |
| ·柯肯达尔空洞的研究进展 | 第14-19页 |
| ·无铅钎料 | 第14-15页 |
| ·Sn 基钎料/Cu 界面的柯肯达尔空洞 | 第15-18页 |
| ·抑制柯肯达尔空洞形成的方法 | 第18-19页 |
| ·界面元素的不平衡扩散 | 第19-21页 |
| ·合金元素对柯肯达尔空洞形成的影响 | 第21-23页 |
| ·Ni 元素的影响 | 第22页 |
| ·Zn 元素的影响 | 第22-23页 |
| ·Cu 和 Ag 元素的影响 | 第23页 |
| ·第一性原理 | 第23-25页 |
| ·界面 IMC 相中的应用 | 第23-24页 |
| ·密度泛函理论 | 第24-25页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 样品制备与表征方法 | 第27-31页 |
| ·实验材料与钎料制备 | 第27页 |
| ·CU 基板制备 | 第27-28页 |
| ·样品制备 | 第28-29页 |
| ·样品表征 | 第29-31页 |
| ·电子扫描显微镜（SEM） | 第29页 |
| ·透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy, TEM） | 第29页 |
| ·X 射线衍射仪（X-Ray Diffractormeter, XRD） | 第29页 |
| ·X 射线光电子能谱仪（X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS） | 第29-30页 |
| ·微纳米硬度（Nanoindentation Testing, NIT） | 第30-31页 |
| 第三章 SN 基钎料/CU 界面的互扩散性质 | 第31-65页 |
| ·SN 基钎料/CU 接头的界面反应 | 第31-40页 |
| ·界面微观组织形貌 | 第32-36页 |
| ·界面成分与物相分析 | 第36-37页 |
| ·反应界面处组分元素的扩散分析 | 第37-40页 |
| ·界面 IMC 层的生长动力学 | 第40-47页 |
| ·生长动力学理论 | 第40-41页 |
| ·界面 IMC 层的生长 | 第41-45页 |
| ·生长动力学分析 | 第45-47页 |
| ·初始反应界面参照法 | 第47-49页 |
| ·组分元素在界面 IMC 层中的扩散通量 | 第49-63页 |
| ·界面反应与扩散 | 第49-52页 |
| ·扩散模型 | 第52-56页 |
| ·相界面迁移与扩散通量分析 | 第56-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第四章 SN/CU 体系的界面柯肯达尔空洞 | 第65-82页 |
| ·SN/CU 界面柯肯达尔空洞的形成 | 第65-70页 |
| ·界面微观组织形貌 | 第65-68页 |
| ·界面空洞的演变过程分析 | 第68-70页 |
| ·CU 基板对柯肯达尔空洞形成的影响 | 第70-75页 |
| ·Cu 基板的表面形貌及其成分表征 | 第70-74页 |
| ·影响因素分析 | 第74-75页 |
| ·SN 镀层对柯肯达尔空洞形成的影响 | 第75-80页 |
| ·界面微观组织形貌 | 第76-77页 |
| ·空洞形成与 Sn 镀层的关联性分析 | 第77-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 柯肯达尔空洞与 IMC 相的关联性 | 第82-99页 |
| ·IMC 晶体的空位形成能及空位扩散能垒 | 第82-90页 |
| ·IMC 相晶体结构 | 第82-83页 |
| ·计算方法 | 第83-85页 |
| ·计算结果与讨论 | 第85-90页 |
| ·界面相变残余应力的分布 | 第90-95页 |
| ·相变体积收缩 | 第90-91页 |
| ·有限元模型 | 第91-93页 |
| ·计算结果与分析 | 第93-95页 |
| ·柯肯达尔空洞形成的综合分析 | 第95-98页 |
| ·界面空洞的形核和生长 | 第95-96页 |
| ·空洞形核和生长的模型 | 第96-98页 |
| ·本章小结 | 第98-99页 |
| 第六章 微量合金元素对柯肯达尔空洞的抑制机理 | 第99-115页 |
| ·CU 对柯肯达尔空洞形成的影响 | 第99-102页 |
| ·界面微观组织形貌 | 第99-101页 |
| ·Cu 元素的作用机理分析 | 第101-102页 |
| ·ZN 对柯肯达尔空洞形成的影响 | 第102-110页 |
| ·界面微观组织形貌 | 第102-105页 |
| ·Zn 元素的作用机理分析 | 第105-110页 |
| ·NI 对柯肯达尔空洞形成的影响 | 第110-114页 |
| ·界面微观组织形貌 | 第110-113页 |
| ·Ni 元素的作用机理分析 | 第113-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 第七章 全文总结 | 第115-118页 |
| 参考文献 | 第118-133页 |
| 攻读博士学位期间已发表或录用的论文 | 第133-135页 |
| 致谢 | 第135-138页 |
| 附件 | 第138页 |
