| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| ·研究背景 | 第14-16页 |
| ·ZrB_2 的性质与特点 | 第16-17页 |
| ·MoSi_2 的性质与特点 | 第17-18页 |
| ·ZrB_2 的制备方法 | 第18-20页 |
| ·ZrB_2 粉体的制备 | 第18-19页 |
| ·单相ZrB_2 陶瓷的制备 | 第19-20页 |
| ·ZrB_2 基超高温陶瓷的烧结方法及研究进展 | 第20-26页 |
| ·热压烧结（HP） | 第20-21页 |
| ·热压烧结特点 | 第20页 |
| ·ZrB_2-metal 体系的热压烧结 | 第20页 |
| ·ZrB_2-SiC 体系的热压烧结 | 第20-21页 |
| ·ZrB_2-nitride 体系的热压烧结 | 第21页 |
| ·ZrB_2-disilicide 体系的热压烧结 | 第21页 |
| ·放电等离子体烧结（SPS） | 第21-25页 |
| ·放电等离子体烧结特点 | 第21-23页 |
| ·ZrB_2-metal 体系的放电等离子体烧结 | 第23页 |
| ·ZrB_2-ZrO_2 体系的放电等离子体烧结 | 第23页 |
| ·ZrB_2-SiC 体系的放电等离子体烧结 | 第23-24页 |
| ·ZrB_2-disilicide 体系的放电等离子体烧结 | 第24页 |
| ·ZrB_2-ZrC-SiC 体系的放电等离子体烧结 | 第24-25页 |
| ·无压烧结（PS） | 第25页 |
| ·无压烧结特点 | 第25页 |
| ·添加液相形成剂的无压烧结 | 第25页 |
| ·添加活性添加剂的无压烧结 | 第25页 |
| ·高温自蔓延合成烧结（SHS） | 第25-26页 |
| ·ZrB_2 基超高温陶瓷存在的问题及解决办法 | 第26页 |
| ·本课题的研究意义和主要内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验总体方案与实验设备 | 第28-36页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验总体方案设计 | 第28页 |
| ·实验原料 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28-30页 |
| ·ZrB_2-MoSi_2 超高温陶瓷粉体的制备 | 第30页 |
| ·球磨之后的粉体表征 | 第30-31页 |
| ·测试与分析 | 第31-36页 |
| ·电火花线切割 | 第32页 |
| ·致密度测试 | 第32页 |
| ·力学性能测试 | 第32-33页 |
| ·抗弯强度测试 | 第32-33页 |
| ·维氏硬度与显微维氏硬度测试 | 第33页 |
| ·断裂韧度测试 | 第33页 |
| ·电导率测试 | 第33-34页 |
| ·氧化性能测试 | 第34页 |
| ·烧蚀性能测试 | 第34-35页 |
| ·物相分析 | 第35页 |
| ·微观结构与形貌分析 | 第35-36页 |
| 第三章 ZrB_2-MoSi_2超高温陶瓷的SPS 制备及性能研究 | 第36-48页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36页 |
| ·保温时间与烧结压强对SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷组织与性能的影响 | 第36-38页 |
| ·组分对SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷组织与性能的影响 | 第38-47页 |
| ·组分设计 | 第38页 |
| ·SPS 制备陶瓷宏观形貌及未抛光表面形貌 | 第38-39页 |
| ·SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷物相分析 | 第39-40页 |
| ·SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷微观形貌与致密度分析 | 第40-44页 |
| ·SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷力学性能分析 | 第44-46页 |
| ·抗弯强度 | 第44-45页 |
| ·维氏硬度与显微维氏硬度 | 第45-46页 |
| ·断裂韧度 | 第46页 |
| ·SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷电导率分析 | 第46-47页 |
| ·SPS 制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷小结 | 第47-48页 |
| 第四章 ZrB_2-MoSi_2超高温陶瓷的无压烧结制备及性能研究 | 第48-55页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验方法 | 第48页 |
| ·无压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷宏观形貌 | 第48-49页 |
| ·无压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷物相与微观形貌分析 | 第49-51页 |
| ·无压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷物相分析 | 第49-50页 |
| ·无压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷微观形貌与致密度分析 | 第50-51页 |
| ·无压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷力学性能分析 | 第51-53页 |
| ·抗弯强度 | 第51-52页 |
| ·维氏硬度与显微维氏硬度 | 第52-53页 |
| ·断裂韧度 | 第53页 |
| ·无压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷电导率分析 | 第53-54页 |
| ·无压烧结制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷小结 | 第54-55页 |
| 第五章 ZrB_2-MoSi_2超高温陶瓷的热压烧结制备及性能研究 | 第55-60页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验方法 | 第55页 |
| ·热压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷宏观形貌 | 第55页 |
| ·热压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷物相与微观形貌分析 | 第55-57页 |
| ·热压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷物相分析 | 第55-56页 |
| ·热压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷微观形貌与致密度分析 | 第56-57页 |
| ·热压烧结ZrB_2-MoSi_2 陶瓷性能分析 | 第57-58页 |
| ·热压烧结制备ZrB_2-MoSi_2 陶瓷小结 | 第58页 |
| ·三种烧结方法对比与总结 | 第58-60页 |
| 第六章 ZrB_2-MoSi_2超高温陶瓷高温抗氧化性能及烧蚀性能研究 | 第60-78页 |
| ·引言 | 第60页 |
| ·单相ZrB_2 的氧化 | 第60页 |
| ·ZrB_2-MoSi_2 陶瓷高温氧化反应分析 | 第60-62页 |
| ·不同氧化温度下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷的氧化行为 | 第62-70页 |
| ·ZrB_2-MoSi_2 陶瓷连续升温热分析 | 第62页 |
| ·不同氧化温度下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷的宏观形貌与质量变化 | 第62-63页 |
| ·不同氧化温度下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷表面物相分析 | 第63-64页 |
| ·不同氧化温度下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷表面形貌与氧化层横截面分析 | 第64-70页 |
| ·800℃-900℃氧化 | 第64-65页 |
| ·1000℃-1100℃氧化 | 第65-67页 |
| ·1200℃-1300℃氧化 | 第67-68页 |
| ·1400℃-1500℃氧化 | 第68-70页 |
| ·不同氧化时间下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷的氧化行为 | 第70-75页 |
| ·不同氧化时间下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷的宏观形貌与质量变化 | 第70-71页 |
| ·1500℃不同氧化时间下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷表面物相分析 | 第71-72页 |
| ·1500℃不同氧化时间下ZrB_2-MoSi_2 陶瓷表面形貌与氧化层横截面分析 | 第72-75页 |
| ·1500℃氧化30min 和180min | 第72页 |
| ·1500℃氧化600min、1200min 和1800min | 第72-73页 |
| ·1500℃氧化2400min 和3600min | 第73-75页 |
| ·ZrB_2-MoSi_2 陶瓷的烧蚀性能研究 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第七章 结论与展望 | 第78-80页 |
| ·结论 | 第78-79页 |
| ·展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第88页 |
