| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-18页 |
| ·纳米材科的概念和发展 | 第8-9页 |
| ·硅溶胶的特点 | 第9-10页 |
| ·国内外的研究现状 | 第10-18页 |
| ·国外发展状况 | 第10-11页 |
| ·国内发展状况 | 第11-18页 |
| 第二章 硅溶胶的制备原理及稳定机理 | 第18-31页 |
| ·纳米硅溶胶制备原理 | 第18-22页 |
| ·离子交换树脂作用机理 | 第18-19页 |
| ·硅酸的聚合机理 | 第19-22页 |
| ·硅溶胶的稳定理论 | 第22-30页 |
| ·DLVO理论 | 第22-25页 |
| ·空间稳定性(steric stablility)理论或熵稳定作用 | 第25-30页 |
| ·提高硅溶胶稳定分散的机理 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 大粒径、高浓度硅溶胶的制备及表征 | 第31-40页 |
| ·实验试剂和实验设备 | 第31-32页 |
| ·实验主要试剂 | 第31-32页 |
| ·实验主要仪器与设备 | 第32页 |
| ·纳米硅溶胶的制备 | 第32-36页 |
| ·水玻璃预处理 | 第33页 |
| ·原料配制 | 第33页 |
| ·离子交换反应 | 第33-34页 |
| ·二氧化硅母核的制备 | 第34-35页 |
| ·二氧化硅母核粒径的进一步增长 | 第35页 |
| ·浓缩步骤 | 第35页 |
| ·纯化步骤 | 第35-36页 |
| ·模数的测定 | 第36页 |
| ·硅溶胶动力粘度的测定 | 第36页 |
| ·S-值 | 第36-37页 |
| ·比表面积的测定 | 第37-38页 |
| ·胶体胶粒平均粒径的计算 | 第38页 |
| ·硅溶胶稳定性测定 | 第38页 |
| ·硅溶胶粒度分布测定 | 第38页 |
| ·红外光谱测试 | 第38-39页 |
| ·SEM表征 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第40-76页 |
| ·制备活性硅酸过程中的影响因素 | 第40-43页 |
| ·原料质量对制备硅溶胶的影响 | 第40-41页 |
| ·水玻璃浓度的影响 | 第41-43页 |
| ·表面活性剂的影响 | 第43-48页 |
| ·制备二氧化硅母核过程的影响因素 | 第48-63页 |
| ·pH值的影响 | 第48-50页 |
| ·碱化中用碱量的影响 | 第50-51页 |
| ·电解质盐浓度的影响 | 第51-52页 |
| ·反应温度的影响 | 第52-56页 |
| ·活性硅酸用量比的影响 | 第56-60页 |
| ·反应时间的影响 | 第60-63页 |
| ·二氧化硅母核进一步增长过程的影响因素 | 第63-75页 |
| ·加入单质硅的量及加料方式的确定 | 第63-66页 |
| ·催化剂的选择 | 第66页 |
| ·正交实验 | 第66-73页 |
| ·高分子表面包裹 | 第73-75页 |
| ·最终产品各项指标性能 | 第75页 |
| ·本章小节 | 第75-76页 |
| 第五章 结论 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-82页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第82页 |