| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·非线性光学的发展概况 | 第11-12页 |
| ·非线性光学（NLO）材料 | 第12-21页 |
| ·无机NLO 材料 | 第12-14页 |
| ·无机NLO 单晶材料 | 第12-13页 |
| ·低维NLO 半导体材料 | 第13页 |
| ·NLO 玻璃材料 | 第13-14页 |
| ·有机NLO 材料 | 第14-21页 |
| ·有机低分子NLO 材料 | 第14页 |
| ·有机聚合物NLO 材料 | 第14-20页 |
| ·金属有机NLO 材料 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究目标、内容和技术路线 | 第21-23页 |
| ·研究目标 | 第21页 |
| ·内容和技术路线 | 第21-23页 |
| 第二章 DCDHF-2-V/PMMA 体系中各组成的理论计算 | 第23-33页 |
| ·生色团分子及主体聚合物介绍 | 第23-25页 |
| ·DCDHF-2-V 生色团分子介绍 | 第23-24页 |
| ·PMMA 主体聚合物介绍 | 第24-25页 |
| ·非线性光学极化率 | 第25-26页 |
| ·非线性极化率的量子化学计算方法简介 | 第26-28页 |
| ·有限场法（Finite-Field Method） | 第27页 |
| ·解析求导法（Analytical Derivatives） | 第27页 |
| ·态求和方法（Sum-Over-States,SOS） | 第27-28页 |
| ·耦合振子法（Coupled-Oscillator,CO） | 第28页 |
| ·一阶超极化率的理论计算 | 第28-33页 |
| ·计算过程 | 第28-32页 |
| ·结果分析 | 第32-33页 |
| 第三章 DCDHF-2-V/PMMA 薄膜的制备和极化处理 | 第33-42页 |
| ·薄膜的制备 | 第33-35页 |
| ·PMMA 的提纯 | 第33-34页 |
| ·基片的清洗 | 第34页 |
| ·薄膜的旋涂 | 第34-35页 |
| ·薄膜的极化处理 | 第35-42页 |
| ·极化方法介绍 | 第35-40页 |
| ·电场极化 | 第36-38页 |
| ·全光极化 | 第38-40页 |
| ·电晕极化实验 | 第40-42页 |
| ·实验装置 | 第40-41页 |
| ·实验步骤 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-42页 |
| 第四章 DCDHF-2-V/PMMA 薄膜的性能表征 | 第42-61页 |
| ·薄膜的 UV-Visible 吸收频谱 | 第42-44页 |
| ·薄膜的原子力显微镜（AFM）分析 | 第44-46页 |
| ·薄膜膜厚及折射率的椭偏测试 | 第46-52页 |
| ·椭偏测量原理 | 第46-49页 |
| ·薄膜样品的测试 | 第49-52页 |
| ·薄膜波导传播模式分析 | 第52-54页 |
| ·二阶NLO 系数的测量 | 第54-61页 |
| ·测量方法简介 | 第56页 |
| ·Maker 条纹测量法 | 第56-58页 |
| ·一维刚性取向气体模型计算法 | 第58-59页 |
| ·存在问题与讨论 | 第59-61页 |
| 第五章 结论与展望 | 第61-63页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| ·展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 在学期间的研究成果 | 第69-70页 |
