PLZT、BST铁电薄膜光学特性研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-8页
第一章 绪论	第8-17页
·研究背景	第8-9页
·电光材料的应用	第9-12页
·电光材料研究现状	第12-14页
·电光材料选材研究	第14-15页
·研究思路	第15-17页
第二章 薄膜制备与表征方法介绍	第17-24页
·薄膜制备方法	第17-22页
·薄膜表征	第22-24页
·X 射线衍射分析	第22页
·AFM 表面形貌分析	第22页
·扫描电子显微镜（SEM）	第22-23页
·电光性质测试原理及仪器	第23-24页
第三章 PLZT 靶材配方及薄膜制备研究	第24-45页
·PLZT 靶材配方研究	第24-41页
·配方研究内容	第24-25页
·PLZT 的结构及相图	第25-28页
·PLZT 陶瓷的制备	第28-32页
·靶材配方实验结果讨论	第32-41页
·PLZT 薄膜制备研究	第41-44页
·PLZT 薄膜制备工艺	第41-42页
·PLZT 薄膜与ITO 透明电极兼容性探索	第42-44页
·本章小结	第44-45页
第四章 BST 薄膜残余应力及 XPS 分析	第45-53页
·残余应力分析	第45-49页
·薄膜XPS 分析	第49-52页
·本章小结	第52-53页
第五章 PLZT、BST 薄膜光学性质分析	第53-63页
·光学性质测量综述	第53-54页
·PLZT 薄膜光学性质分析	第54-59页
·PLZT 薄膜光学性质表征	第54-55页
·PLZT 薄膜光学性质试验结果及讨论	第55-59页
·BST 薄膜光学性质分析	第59-62页
·本章小结	第62-63页
第六章 结论	第63-64页
致谢	第64-65页
参考文献	第65-69页
在学期间研究成果	第69页