| 目录 | 第1-4页 |
| 中文摘要 | 第4页 |
| 关键词 | 第4页 |
| 1 引言 | 第4-5页 |
| 2 理论模型 | 第5-19页 |
| ·分子内禀特征轮廓的定义 | 第5-6页 |
| ·分子中一个电子的作用势的表达式 | 第6-7页 |
| ·自旋限制的 Hartree—FoCk 自洽场分子轨道理论下的表达 | 第7-11页 |
| ·组态相互作用下一个电子所受到作用势的具体表达 | 第11-18页 |
| ·组态相互作用的波函数 | 第11-13页 |
| ·Slater 行列式波函数的一阶约化密度函数 | 第13-15页 |
| ·多Slater 行列式波函数的二阶约化密度函数 | 第15-18页 |
| ·分子中一个电子所受到的作用势(PAEM)的从头计算方法和程 | 第18-19页 |
| ·工自旋限制的Hartree—FoCk 自洽场分子轨道理论 | 第18-19页 |
| ·组态相互作用 | 第19页 |
| ·程序 | 第19页 |
| 3 结果与讨论 | 第19-45页 |
| ·HCl 分子在化学键断裂过程中边界轮廓及轮廓上电子密度的变化 | 第19-33页 |
| ·HCl 分子在不同核间距下电离能的计算 | 第19-21页 |
| ·平衡几何构型下HCl 分子的空间和电子密度特征轮廓 | 第21-22页 |
| ·HCl 体系处于临界点时的内禀边界轮廓与密度 | 第22页 |
| ·HCl 体系化学键断裂后的边界轮廓及密度特征 | 第22-23页 |
| ·小结 | 第23-33页 |
| ·HBr 分子化学键断裂过程中內禀特征轮廓及轮廓上电子密度的变化 | 第33-42页 |
| ·HF、HCl、HBr 分子在化学键断裂时边界轮廓及轮廓上电子密度的变化的比较讨论 | 第42-45页 |
| 英文摘要 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 独创性声明 | 第51页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第51页 |
