摘 要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-19页 |
·前言 | 第9-10页 |
·粉末冶金烧结技术领域发展现状与趋势 | 第10-12页 |
·烧结技术的多样性及其存在的问题 | 第12-15页 |
·空心阴极效应的产生及其实现材料快速烧结的特点 | 第15-19页 |
·气体导电和空心阴极效应的主要特点 | 第15-16页 |
·空心阴极的放电特性以及空心阴极技术实现快速高温烧结的特点 | 第16-18页 |
·课题的主要研究内容 | 第18-19页 |
第2章 空心阴极放电特性实验研究 | 第19-33页 |
·引言 | 第19页 |
·实验条件与方法 | 第19-20页 |
·实验结果 | 第20-27页 |
·平行板空心阴极的点燃条件 | 第20-21页 |
·圆筒形空心阴极的点燃条件 | 第21-22页 |
·平行板空心阴极的功率输出特性 | 第22-24页 |
·圆筒形空心阴极的电流输出特点以及温度变化规律 | 第24-26页 |
·空心阴极温度随时间的下滑趋势 | 第26-27页 |
·圆筒形空心阴极与平行板阴极放电的电流密度对比 | 第27页 |
·空心阴极放电机理的讨论 | 第27-31页 |
·空心阴极的放电区间 | 第27-28页 |
·鞘层区电子输运的蒙特-卡洛处理方法 | 第28-31页 |
·本章小结 | 第31-33页 |
第3章 空心阴极烧结 AlN 陶瓷实验研究 | 第33-45页 |
·AIN 陶瓷的基本结构与性能 | 第33-35页 |
·AIN 陶瓷的基本结构 | 第33页 |
·氮化铝陶瓷的优异性能与广阔的应用前景 | 第33-34页 |
·氮化铝陶瓷烧结的新进展 | 第34-35页 |
·实验材料与设备 | 第35-37页 |
·AlN 原料 | 第35页 |
·其他实验材料 | 第35-36页 |
·空心阴极等离子烧结设备 | 第36页 |
·AlN 陶瓷的测试手段 | 第36-37页 |
·实验结果分析 | 第37-43页 |
·温度对致密度的影响 | 第37-38页 |
·保温时间对烧结试样致密度的影响 | 第38-39页 |
·温度对线收缩率的影响 | 第39页 |
·YLC 试样烧结特性 | 第39-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第4章 铁基粉末的空心阴极烧结及渗金属复合处理工艺研究 | 第45-57页 |
·引言 | 第45-48页 |
·渗金属技术的现状及发展趋势 | 第45-46页 |
·阴极溅射的理论基础 | 第46-47页 |
·空心阴极烧结及离子渗金属复合处理技术的可行性分析 | 第47-48页 |
·实验条件及方法 | 第48-49页 |
·实验结果分析 | 第49-56页 |
·空心阴极工艺参数对粉末冶金基体烧结的影响 | 第49-52页 |
·空心阴极工艺参数对试样渗层的影响 | 第52-55页 |
·渗层显微组织分析 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
结 论 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |
硕士生期间发表论文情况 | 第62-63页 |
致 谢 | 第63页 |