| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 序 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·铟镓锌氧化物(IGZO) | 第12-15页 |
| ·IGZO的发现 | 第12-13页 |
| ·IGZO材料简介 | 第13-14页 |
| ·IGZO薄膜的电子输运特性 | 第14-15页 |
| ·IGZO-TFT的发展与研究现状 | 第15-18页 |
| ·IGZO-TFT的发展历程 | 第15-16页 |
| ·IGZO-TFT的产业化 | 第16-17页 |
| ·IGZO-TFT的研究现状 | 第17-18页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 IGZO薄膜晶体管的工作原理与制备 | 第20-30页 |
| ·薄膜晶体管器件结构 | 第20页 |
| ·薄膜晶体管工作原理 | 第20-22页 |
| ·薄膜晶体管性能参数 | 第22-24页 |
| ·薄膜晶体管电极材料的选择 | 第24-25页 |
| ·IGZO有源层的制备方法 | 第25-30页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第25页 |
| ·溶液法 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射法及其原理 | 第26-30页 |
| 第三章 铟镓锌氧化物薄膜光学透过率的研究 | 第30-35页 |
| ·IGZO薄膜的制备 | 第30-32页 |
| ·载玻片衬底的清洗 | 第30页 |
| ·IGZO薄膜的镀膜过程 | 第30-32页 |
| ·IGZO薄膜光学透过率的测试方法 | 第32页 |
| ·IGZO薄膜的光学透过率的研究 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 氧分压对IGZO薄膜及IGZO-TFT性能影响的研究 | 第35-42页 |
| ·IGZO薄膜的制备 | 第35-38页 |
| ·衬底清洗 | 第35-36页 |
| ·氧分压对IGZO薄膜表面形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·IGZO-TFT器件的制备及性能测试 | 第38-41页 |
| ·IGZO-TFT器件的制备 | 第38页 |
| ·IGZO-TFT器件性能的测试 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 热处理对IGZO薄膜及IGZO-TFT性能影响的研究 | 第42-47页 |
| ·热处理对IGZO薄膜表面形貌的影响 | 第42-44页 |
| ·热处理对IGZO-TFT性能影响的研究 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第六章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 作者简历 | 第50-52页 |
| 学位论文数据集 | 第52页 |