用ERDA方法对材料同时进行多元素分析
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-12页 |
| ·对材料同时进行多元素分析的意义 | 第8页 |
| ·国内外的研究现状和研究方法 | 第8-10页 |
| ·研究历史 | 第8-9页 |
| ·研究现状 | 第9-10页 |
| ·ERDA方法简介 | 第10-12页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第12-23页 |
| ·弹性反冲探测分析原理 | 第12-16页 |
| ·弹性散射简介 | 第12-14页 |
| ·运动学关系 | 第14-15页 |
| ·反冲截面 | 第15页 |
| ·深度分布 | 第15-16页 |
| ·对材料同时进行多元素分析的原理 | 第16-17页 |
| ·△E-E电离室望远镜探测器的粒子鉴别原理 | 第17-19页 |
| ·基于Bethe-Block公式的粒子分辨 | 第17-18页 |
| ·基于射程-能量关系式的粒子分辨 | 第18-19页 |
| ·位置灵敏探测器的工作原理 | 第19-23页 |
| ·一维位置灵敏半导体探测器 | 第19-21页 |
| ·一维位置灵敏半导体探测器的结构 | 第19页 |
| ·一维位置灵敏半导体探测器的工作原理 | 第19-21页 |
| ·二维位置灵敏半导体探测器 | 第21-23页 |
| ·二维位置灵敏半导体探测器的结构 | 第21页 |
| ·二维位置灵敏半导体探测器的工作原理 | 第21-23页 |
| 第三章 实验设备 | 第23-31页 |
| ·△E-E电离室望远镜探测器 | 第23-27页 |
| ·实验用△E-E电离室望远镜探测器 | 第23-24页 |
| ·△E-E电离室望远镜探测器简介 | 第24-25页 |
| ·△E探测器 | 第24-25页 |
| ·E探测器 | 第25页 |
| ·鉴别能力 | 第25-26页 |
| ·探测器输出脉冲幅度的涨落 | 第26-27页 |
| ·△E探测器输出脉冲幅度的涨落 | 第26-27页 |
| ·E探测器输出脉冲幅度的涨落 | 第27页 |
| ·流气系统 | 第27-29页 |
| ·气体的电离 | 第27-28页 |
| ·流气系统的应用 | 第28-29页 |
| ·散射靶室 | 第29页 |
| ·HI-13串列式静电加速器 | 第29-31页 |
| 第四章 实验步骤 | 第31-37页 |
| ·实验布局 | 第31页 |
| ·对△E-E望远镜进行调试 | 第31-34页 |
| ·电离室流气系统的调试 | 第31-32页 |
| ·电离室坪曲线的测定 | 第32-33页 |
| ·电离室能量分辨的测定 | 第33-34页 |
| ·位置灵敏半导体能量和位置分辨的测定 | 第34页 |
| ·实验测量电子学系统的建立 | 第34页 |
| ·实验探测样品靶的安装及角度调整 | 第34-35页 |
| ·在线数据获取及记录 | 第35页 |
| ·实验束流结束后用精密脉冲发生器对线路进行刻度 | 第35页 |
| ·用α-源对△E-E望远镜的探测中心进行标定 | 第35-37页 |
| 第五章 数据分析与处理 | 第37-44页 |
| ·角度修正 | 第37-38页 |
| ·位置刻度 | 第38-39页 |
| ·能量刻度 | 第39页 |
| ·H谱的获得 | 第39-40页 |
| ·实验数据处理结果 | 第40-44页 |
| ·SiC:H薄膜的ERD分析结果 | 第40-42页 |
| ·有机膜的ERD分析结果 | 第42-44页 |
| 第六章 结论与展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 附录 | 第48页 |
