| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·ZnO的结构与性质 | 第13-16页 |
| ·ZnO的基本结构与性质 | 第13-14页 |
| ·ZnO的光电特性 | 第14-15页 |
| ·ZnO的其他特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO中的点缺陷 | 第16页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| ·磁控溅射(Magnetron-sputtering) | 第16-17页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第17页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第17-18页 |
| ·喷雾热分解法(Spray Pyrolysis) | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第18-19页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的研究现状 | 第19-21页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的应用 | 第21-24页 |
| ·太阳能电池 | 第22-23页 |
| ·气敏传感器 | 第23页 |
| ·红外反射膜 | 第23页 |
| ·其他应用 | 第23-24页 |
| ·本文的立题思路和研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验设备及原理、薄膜制备及性能表征 | 第26-32页 |
| ·磁控溅射设备及原理 | 第26-28页 |
| ·磁控溅射设备 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射原理 | 第27-28页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的制备及其表征 | 第28-32页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的制备 | 第28-30页 |
| ·ZnO透明导电薄膜的性能表征 | 第30-32页 |
| 第三章 AZO透明导电薄膜的性能优化 | 第32-42页 |
| ·正交实验设计简介 | 第32-34页 |
| ·正交表 | 第32-33页 |
| ·正交实验设计的安排 | 第33页 |
| ·正交实验设计的极差分析 | 第33-34页 |
| ·正交实验分析方法 | 第34页 |
| ·正交设计在ZnO基透明导电薄膜生长中的应用 | 第34-40页 |
| ·实验因素和水平的选取 | 第34-35页 |
| ·正交阵列的设定 | 第35-36页 |
| ·结果与分析 | 第36-37页 |
| ·最优薄膜性能表征 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 AZO透明导电薄膜在太阳能电池中的应用 | 第42-54页 |
| ·晶硅太阳能电池简介及自制新型电池介绍 | 第42-46页 |
| ·晶硅太阳能电池及其原理简介 | 第42-44页 |
| ·新型结构太阳能电池介绍 | 第44-46页 |
| ·AZO/Si结构的研究 | 第46-52页 |
| ·薄膜性能对比 | 第46-47页 |
| ·AZO/Si结构退火前后形貌对比 | 第47-48页 |
| ·AZO/Si结构退火前后I-V图谱对比 | 第48-49页 |
| ·AZO/Si结构退火前后TEM图对比 | 第49-50页 |
| ·AZO/Si结构退火前后的SIMS测试 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 AZO透明导电薄膜在柔性沉底上的生长及其稳定性研究 | 第54-72页 |
| ·AZO透明导电薄膜在PC衬底上的生长 | 第55-65页 |
| ·Ar:O对AZO薄膜性能的影响 | 第55-59页 |
| ·溅射压强对AZO薄膜性能的影响 | 第59-64页 |
| ·本节小结 | 第64-65页 |
| ·PC衬底上生长AZO薄膜的稳定性研究 | 第65-72页 |
| ·AZO/PC在空气中的稳定性 | 第65-66页 |
| ·AZO/PC在紫外光照射下的稳定性 | 第66-67页 |
| ·AZO/PC在高温条件下的稳定性 | 第67-71页 |
| ·本节小结 | 第71-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-84页 |
| 致谢 | 第84-86页 |
| 个人简历 | 第86-88页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第88页 |