光学镜面离子束修形理论与工艺研究
| 摘要 | 第1-14页 |
| ABSTRACT | 第14-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-32页 |
| ·课题来源及意义 | 第16-18页 |
| ·课题的来源 | 第16页 |
| ·课题研究的背景和意义 | 第16-18页 |
| ·国内外研究现状 | 第18-31页 |
| ·光学镜面抛光方法 | 第18-26页 |
| ·离子束修形技术 | 第26-31页 |
| ·论文主要研究内容 | 第31-32页 |
| 第二章 去除函数建模与分析 | 第32-45页 |
| ·去除函数理论建模与分析 | 第32-36页 |
| ·去除函数理论建模 | 第32-35页 |
| ·去除函数特性分析 | 第35-36页 |
| ·去除函数实验模型与估计 | 第36-40页 |
| ·去除函数实验模型 | 第36-37页 |
| ·去除函数估计 | 第37-40页 |
| ·去除函数试验 | 第40-44页 |
| ·试验设备简介 | 第40-41页 |
| ·去除函数形状试验 | 第41-42页 |
| ·去除函数稳定性试验 | 第42-43页 |
| ·去除函数保形性试验 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 驻留时间求解方法与优化 | 第45-59页 |
| ·线性方程组方法 | 第45-52页 |
| ·CEH模型 | 第45-46页 |
| ·TSVD算法 | 第46-48页 |
| ·参数优化 | 第48-49页 |
| ·仿真研究 | 第49-52页 |
| ·迭代方法 | 第52-58页 |
| ·脉冲迭代法 | 第52-53页 |
| ·边缘效应控制 | 第53-54页 |
| ·参数优化 | 第54-55页 |
| ·仿真研究 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 离子束加工修形能力分析 | 第59-71页 |
| ·修形能力评价指标 | 第59-60页 |
| ·高斯型去除函数的修形能力 | 第60-64页 |
| ·理论分析 | 第60-61页 |
| ·仿真研究 | 第61-63页 |
| ·离子束修形能力讨论 | 第63-64页 |
| ·任意形状去除函数的修形能力 | 第64-66页 |
| ·一般情况 | 第64-65页 |
| ·常见情况 | 第65-66页 |
| ·修形能力试验 | 第66-70页 |
| ·一维去除函数试验 | 第67-68页 |
| ·正弦面形刻蚀试验 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第五章 离子束修形的误差分析 | 第71-78页 |
| ·定位误差影响分析 | 第71-74页 |
| ·理论分析 | 第71-73页 |
| ·仿真研究 | 第73-74页 |
| ·去除函数误差影响分析 | 第74-77页 |
| ·基本影响方程 | 第74-75页 |
| ·面形收敛比影响 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 离子束修形工艺优化 | 第78-88页 |
| ·定位工艺优化 | 第78-81页 |
| ·定位工艺优化方法 | 第78-79页 |
| ·定位工艺优化试验 | 第79-81页 |
| ·进给工艺优化 | 第81-84页 |
| ·加工路径优化 | 第84-86页 |
| ·等面积增长螺旋线路径 | 第85-86页 |
| ·非均匀路径上驻留时间的求解方法 | 第86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第七章 光学镜面离子束修形试验 | 第88-112页 |
| ·试验设备简介 | 第88-89页 |
| ·φ100mm平面镜修形试验 | 第89-99页 |
| ·样镜1修形试验 | 第89-93页 |
| ·样镜2修形试验 | 第93-96页 |
| ·样镜3修形试验 | 第96-99页 |
| ·SiC异型平面镜修形 | 第99-102页 |
| ·φ200mm球面镜修形 | 第102-105页 |
| ·φ200mm抛物面镜修形 | 第105-110页 |
| ·第一阶段修形 | 第107-108页 |
| ·第二阶段修形 | 第108-110页 |
| ·本章小结 | 第110-112页 |
| 第八章 总结与展望 | 第112-116页 |
| ·全文总结 | 第112-114页 |
| ·研究展望 | 第114-116页 |
| 致谢 | 第116-118页 |
| 参考文献 | 第118-125页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第125-127页 |
| 附录A 驻留时间求解 | 第127页 |
