| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-9页 |
| ·研究背景和选题依据 | 第7页 |
| ·课题来源和选题意义 | 第7-8页 |
| ·本文所做的主要工作 | 第8-9页 |
| 第二章 ZnO薄膜性质及生长研究进展 | 第9-19页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第9-13页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
| ·ZnO薄膜的研究进展 | 第16-19页 |
| 第三章 实验方法及过程 | 第19-27页 |
| ·实验仪器原理简介 | 第19-22页 |
| ·磁过滤阴极脉冲真空弧沉积装置的特点 | 第22-23页 |
| ·ZnO薄膜的制备与性能表征 | 第23-27页 |
| 第四章 PFCVAD工艺对ZnO薄膜结构和应变的影响 | 第27-50页 |
| ·靶负压对ZnO薄膜结构和应变的影响 | 第27-34页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构和应变的影响 | 第34-38页 |
| ·氧气压力对ZnO薄膜结构和应变的影响 | 第38-44页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜结构和应变的影响 | 第44-50页 |
| 第五章 结论与展望 | 第50-52页 |
| ·结论 | 第50-51页 |
| ·展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |