| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-12页 |
| 第一章绪论 | 第12-30页 |
| 1.1研究背景 | 第12页 |
| 1.2光催化制氢概述 | 第12-15页 |
| 1.2.1光催化制氢的原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2光催化制氢活性的影响因素 | 第14-15页 |
| 1.3硫化镉半导体光催化材料概述 | 第15-28页 |
| 1.3.1硫化镉常用的合成方法 | 第17-20页 |
| 1.3.2硫化镉光催化性能优化的策略 | 第20-28页 |
| 1.4碳化钛在光催化领域的应用进展 | 第28页 |
| 1.5论文研究内容与意义 | 第28-30页 |
| 第二章实验与表征 | 第30-34页 |
| 2.1实验试剂 | 第30-31页 |
| 2.2实验设备 | 第31页 |
| 2.3样品的表征测试方法 | 第31-33页 |
| 2.4光电化学测试 | 第33页 |
| 2.5光催化性能测试 | 第33-34页 |
| 第三章一维硫化镉/二维碳化钛肖特基异质结的构筑及光催化性能研究 | 第34-56页 |
| 3.1引言 | 第34-35页 |
| 3.2实验部分 | 第35-36页 |
| 3.2.1样品制备 | 第35-36页 |
| 3.2.2材料表征 | 第36页 |
| 3.2.3光催化性能评价 | 第36页 |
| 3.3结果与讨论 | 第36-54页 |
| 3.3.1碳化钛纳米片的本征分析 | 第37-40页 |
| 3.3.2材料的光催化活性评价 | 第40-42页 |
| 3.3.3材料的形貌结构表征 | 第42-48页 |
| 3.3.4光催化机理分析 | 第48-54页 |
| 3.4本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章二维硫化镉/二维碳化钛的表界面优化及电荷分离强化 | 第56-72页 |
| 4.1引言 | 第56页 |
| 4.2实验部分 | 第56-58页 |
| 4.2.1样品制备 | 第56-57页 |
| 4.2.2材料表征 | 第57页 |
| 4.2.3光催化性能评价 | 第57-58页 |
| 4.3结果与讨论 | 第58-71页 |
| 4.3.1材料的光催化活性评价 | 第58-60页 |
| 4.3.2材料的形貌表征 | 第60-63页 |
| 4.3.3材料的结构表征 | 第63-66页 |
| 4.3.4光催化机理分析 | 第66-71页 |
| 4.4本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章结论与展望 | 第72-74页 |
| 5.1结论 | 第72-73页 |
| 5.2展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 硕士期间的科研成果 | 第87页 |