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基于热压印的连续浮雕结构石英微光学元件加工技术研究

摘要第1-6页
Abstract第6-14页
第1章 绪论第14-33页
   ·课题研究的背景和目的第14-16页
   ·微光学元件的加工方法国内外研究现状第16-22页
     ·熔胶凝胶复制技术第16-18页
     ·热软熔技术第18-19页
     ·灰度掩模技术第19-22页
   ·纳米压印技术及其在微光学元件加工中的应用现状第22-31页
     ·纳米压印技术发展和研究现状第22-24页
     ·热压印技术在连续浮雕石英微光学元件加工中的应用现状第24-31页
   ·本研究领域存在的关键技术问题和科学问题第31-32页
   ·课题研究来源及主要研究内容第32-33页
第2章 基于抗蚀剂整形的阴模填充优化第33-52页
   ·引言第33页
   ·连续浮雕阴模压印的建模分析第33-43页
     ·连续浮雕阴模的结构第33-34页
     ·热压印的物理过程第34-35页
     ·聚合物的流变性第35-36页
     ·Schift 挤压流理论第36-37页
     ·圆对称阴模压印的建模分析第37-40页
     ·传统阴模压印的实验研究第40-43页
   ·基于抗蚀剂整形的连续浮雕阴模压印方法第43-51页
     ·工艺流程及压印结果第43-44页
     ·基于RIE 的抗蚀剂整形方法第44-49页
     ·压模与抗蚀剂的对准第49-50页
     ·抗蚀剂整形及对准的精度要求第50页
     ·脱模第50-51页
   ·本章小结第51-52页
第3章 连续浮雕压模非功能结构的优化设计第52-72页
   ·引言第52页
   ·压模的功能结构设计第52-55页
   ·压模的非功能结构优化第55-62页
     ·阳模的非功能结构优化设计第55-57页
     ·引入止挡栅的阳模加工结果第57-59页
     ·阴模的非功能结构优化设计第59-61页
     ·引入环形空腔的阴模加工结果第61-62页
   ·压印实验第62-66页
   ·阳模边缘效应第66-71页
     ·阳模边缘效应的实验现象第66-68页
     ·阳模边缘效应的影响因素第68-70页
     ·消除阳模边缘效应的非功能结构设计第70-71页
   ·本章小结第71-72页
第4章 三维聚合物结构回弹的实验及仿真研究第72-88页
   ·引言第72页
   ·三维聚合物结构回弹影响因素的实验研究第72-79页
     ·实验方法第72-73页
     ·压印参数对三维聚合物结构回弹的影响第73-78页
     ·回弹现象的结构依赖性第78页
     ·回弹现象影响因素的总结第78-79页
   ·三维聚合物结构回弹的仿真研究第79-87页
     ·回弹现象的热压印建模方法第79-80页
     ·基于Cross-WLF 方程聚合物填充仿真分析第80-82页
     ·基于Cross-WLF 方程及线性弹性体组合模型的回弹仿真方法第82-83页
     ·三维聚合物结构回弹仿真的物理环境第83-85页
     ·三维聚合物结构回弹仿真结果第85-87页
   ·本章小结第87-88页
第5章 连续浮雕的图形传递实验及测试第88-112页
   ·引言第88页
   ·反应离子刻蚀及其参数的作用规律第88-90页
   ·反应离子刻蚀的特殊工艺要求第90-101页
     ·刻蚀选择比第90-96页
     ·刻蚀稳定性第96-97页
     ·刻蚀表面粗糙度第97-100页
     ·抗蚀剂的T_g 选择第100-101页
     ·小结第101页
   ·加工结果的误差评价第101-104页
   ·加工误差对微光学元件光学特性的影响第104-111页
     ·理论分析模型第104-105页
     ·压模加工误差第105-106页
     ·回弹误差第106-107页
     ·轮廓深度误差第107-108页
     ·光学特性测试第108-111页
   ·本章小结第111-112页
结论第112-115页
参考文献第115-125页
攻读博士学位期间发表的学术论文第125页
攻读博士学位期间申请的发明专利第125-127页
致谢第127-128页
个人简历第128页

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