摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-14页 |
第1章 绪论 | 第14-33页 |
·课题研究的背景和目的 | 第14-16页 |
·微光学元件的加工方法国内外研究现状 | 第16-22页 |
·熔胶凝胶复制技术 | 第16-18页 |
·热软熔技术 | 第18-19页 |
·灰度掩模技术 | 第19-22页 |
·纳米压印技术及其在微光学元件加工中的应用现状 | 第22-31页 |
·纳米压印技术发展和研究现状 | 第22-24页 |
·热压印技术在连续浮雕石英微光学元件加工中的应用现状 | 第24-31页 |
·本研究领域存在的关键技术问题和科学问题 | 第31-32页 |
·课题研究来源及主要研究内容 | 第32-33页 |
第2章 基于抗蚀剂整形的阴模填充优化 | 第33-52页 |
·引言 | 第33页 |
·连续浮雕阴模压印的建模分析 | 第33-43页 |
·连续浮雕阴模的结构 | 第33-34页 |
·热压印的物理过程 | 第34-35页 |
·聚合物的流变性 | 第35-36页 |
·Schift 挤压流理论 | 第36-37页 |
·圆对称阴模压印的建模分析 | 第37-40页 |
·传统阴模压印的实验研究 | 第40-43页 |
·基于抗蚀剂整形的连续浮雕阴模压印方法 | 第43-51页 |
·工艺流程及压印结果 | 第43-44页 |
·基于RIE 的抗蚀剂整形方法 | 第44-49页 |
·压模与抗蚀剂的对准 | 第49-50页 |
·抗蚀剂整形及对准的精度要求 | 第50页 |
·脱模 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第3章 连续浮雕压模非功能结构的优化设计 | 第52-72页 |
·引言 | 第52页 |
·压模的功能结构设计 | 第52-55页 |
·压模的非功能结构优化 | 第55-62页 |
·阳模的非功能结构优化设计 | 第55-57页 |
·引入止挡栅的阳模加工结果 | 第57-59页 |
·阴模的非功能结构优化设计 | 第59-61页 |
·引入环形空腔的阴模加工结果 | 第61-62页 |
·压印实验 | 第62-66页 |
·阳模边缘效应 | 第66-71页 |
·阳模边缘效应的实验现象 | 第66-68页 |
·阳模边缘效应的影响因素 | 第68-70页 |
·消除阳模边缘效应的非功能结构设计 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
第4章 三维聚合物结构回弹的实验及仿真研究 | 第72-88页 |
·引言 | 第72页 |
·三维聚合物结构回弹影响因素的实验研究 | 第72-79页 |
·实验方法 | 第72-73页 |
·压印参数对三维聚合物结构回弹的影响 | 第73-78页 |
·回弹现象的结构依赖性 | 第78页 |
·回弹现象影响因素的总结 | 第78-79页 |
·三维聚合物结构回弹的仿真研究 | 第79-87页 |
·回弹现象的热压印建模方法 | 第79-80页 |
·基于Cross-WLF 方程聚合物填充仿真分析 | 第80-82页 |
·基于Cross-WLF 方程及线性弹性体组合模型的回弹仿真方法 | 第82-83页 |
·三维聚合物结构回弹仿真的物理环境 | 第83-85页 |
·三维聚合物结构回弹仿真结果 | 第85-87页 |
·本章小结 | 第87-88页 |
第5章 连续浮雕的图形传递实验及测试 | 第88-112页 |
·引言 | 第88页 |
·反应离子刻蚀及其参数的作用规律 | 第88-90页 |
·反应离子刻蚀的特殊工艺要求 | 第90-101页 |
·刻蚀选择比 | 第90-96页 |
·刻蚀稳定性 | 第96-97页 |
·刻蚀表面粗糙度 | 第97-100页 |
·抗蚀剂的T_g 选择 | 第100-101页 |
·小结 | 第101页 |
·加工结果的误差评价 | 第101-104页 |
·加工误差对微光学元件光学特性的影响 | 第104-111页 |
·理论分析模型 | 第104-105页 |
·压模加工误差 | 第105-106页 |
·回弹误差 | 第106-107页 |
·轮廓深度误差 | 第107-108页 |
·光学特性测试 | 第108-111页 |
·本章小结 | 第111-112页 |
结论 | 第112-115页 |
参考文献 | 第115-125页 |
攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第125页 |
攻读博士学位期间申请的发明专利 | 第125-127页 |
致谢 | 第127-128页 |
个人简历 | 第128页 |