| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·课题来源及研究目的与意义 | 第8-9页 |
| ·微弧氧化技术 | 第9-13页 |
| ·微弧氧化技术发展历程简述 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化技术国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·铝合金微弧氧化膜的特性 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化技术研究展望 | 第13页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第13-15页 |
| 第2章 试验条件和试验方法 | 第15-20页 |
| ·试验条件 | 第15-16页 |
| ·试验设备 | 第15-16页 |
| ·试验材料 | 第16页 |
| ·微弧氧化工艺流程 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化膜测试 | 第17-19页 |
| ·微弧氧化膜厚度测量 | 第17页 |
| ·微弧氧化膜硬度测量 | 第17页 |
| ·微弧氧化膜的盐雾试验 | 第17页 |
| ·微弧氧化膜与基体的强度测试 | 第17-19页 |
| ·微弧氧化膜耐高温冲刷烧蚀试验 | 第19页 |
| ·微弧氧化膜特性分析 | 第19页 |
| ·本章小结 | 第19-20页 |
| 第3章 铝合金LC4 微弧氧化膜影响参数及膜组织相变的研究 | 第20-36页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化无疏松层硬质薄膜制备方案研究 | 第20-21页 |
| ·电源工作模式的确定 | 第20-21页 |
| ·电解液组成成分的确定 | 第21页 |
| ·电参数对铝合金LC4 微弧氧化膜的影响 | 第21-27页 |
| ·正向电流密度对铝合金LC4 微弧氧化膜的影响 | 第21-23页 |
| ·负正向电流密度比对LC4 微弧氧化膜的影响 | 第23-24页 |
| ·负向占空比对铝合金LC4 微弧氧膜的影响 | 第24-26页 |
| ·频率对铝合金LC4 微弧氧膜的影响 | 第26-27页 |
| ·工艺参数对铝合金LC4 微弧氧化膜的影响 | 第27-32页 |
| ·硅酸钠浓度对铝合金LC4 微弧氧化膜的影响 | 第28-29页 |
| ·四硼酸钠浓度对铝合金LC4 微弧氧化膜的影响 | 第29-30页 |
| ·氢氧化钠浓度对铝合金LC4 微弧氧化膜的影响 | 第30-32页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜组织相变研究 | 第32-34页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜相变驱动力研究 | 第32-34页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜相变温度分析 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 铝合金LC4 微弧氧化膜回归优化及特性研究 | 第36-51页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜回归优化 | 第36-41页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜影响参数的确定 | 第36页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜二次回归数学模型的建立 | 第36-38页 |
| ·显著性和失拟性检验 | 第38-41页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜回归优化及其结果 | 第41页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜特性研究 | 第41-50页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜微观形貌分析 | 第41-45页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜化学成分组成和相组成分析 | 第45-48页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜与基体的结合强度研究 | 第48-49页 |
| ·铝合金LC4 微弧氧化膜抗高温冲刷烧蚀性能研究 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学位论文 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
