GIC-4117串列加速器系统及应用研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 第一章 串列加速器系统 | 第12-33页 |
| ·加速器系统总体布局 | 第12-13页 |
| ·加速器各子系统介绍 | 第13-21页 |
| 高压系统 | 第13页 |
| 真空系统 | 第13-14页 |
| 冷却系统 | 第14-15页 |
| 束流测量系统 | 第15-16页 |
| 离子源 | 第16-18页 |
| 聚焦系统 | 第18-19页 |
| 质量分析系统 | 第19-20页 |
| 扫描系统 | 第20-21页 |
| ·串列加速器加速管 | 第21-27页 |
| 加速管拆卸 | 第23-25页 |
| 加速管安装 | 第25-27页 |
| ·多功能离子束分析装置与核探测技术 | 第27-33页 |
| 第二章 离子注入与离子束分析 | 第33-74页 |
| ·离子束与固体相互作用 | 第34-35页 |
| ·离子注入 | 第35-37页 |
| ·卢瑟福背散射分析 | 第37-52页 |
| RBS技术发展史 | 第39-41页 |
| RBS基本原理 | 第41-45页 |
| RBS实验技术 | 第45-49页 |
| RBS分析软件 | 第49-52页 |
| ·粒子激发X射线荧光分析 | 第52-60页 |
| PIXE基本原理 | 第53-55页 |
| PIXE实验技术 | 第55-58页 |
| PIXE分析软件 | 第58-60页 |
| ·弹性反冲分析和核反应分析 | 第60-65页 |
| 弹性反冲分析 | 第60-63页 |
| 核反应分析 | 第63-65页 |
| ·沟道技术 | 第65-74页 |
| 第三章 离子束技术在功能材料中的应用 | 第74-100页 |
| ·Co注入GaN薄膜研究 | 第74-81页 |
| 实验条件 | 第74-75页 |
| 结果和讨论 | 第75-81页 |
| ·Fe注入SiGe薄膜研究 | 第81-96页 |
| 实验条件 | 第82页 |
| 结果和讨论 | 第82-96页 |
| ·Mn注入CdTe研究 | 第96-100页 |
| 第四章 总结与展望 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-112页 |
| Abbreviations | 第112-114页 |
| 攻读博士学位期间发表文章 | 第114-115页 |
| 致谢 | 第115页 |
