碲化钼场效应晶体管的退火效应的理论及应用研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第7-8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-12页 |
| 1.2.1 碲化钼场效应晶体管的研究现状 | 第8-10页 |
| 1.2.2 PN结的研究现状 | 第10-11页 |
| 1.2.3 碲化钼反相器的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 本课题主要研究内容 | 第12页 |
| 本章小结 | 第12-13页 |
| 第2章 场效应晶体管的原理及制作工艺 | 第13-21页 |
| 2.1 场效应晶体管工作原理 | 第13-15页 |
| 2.1.1 场效应晶体管结构 | 第13页 |
| 2.1.2 工作原理 | 第13-14页 |
| 2.1.3 技术指标 | 第14-15页 |
| 2.2 基于碲化钼的场效应晶体管制造方法 | 第15-20页 |
| 2.2.1 二维材料制备 | 第15-17页 |
| 2.2.2 光刻及电子束曝光 | 第17-19页 |
| 2.2.3 金属薄膜沉积 | 第19页 |
| 2.2.4 剥离 | 第19页 |
| 2.2.5 快速退火 | 第19-20页 |
| 本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 退火效应在碲化钼场效应晶体管中的研究 | 第21-37页 |
| 3.1 物理化学表征测试 | 第21-24页 |
| 3.2 退火前后器件大气环境下性能测试 | 第24-27页 |
| 3.3 退火前后器件低温真空环境下性能测试 | 第27-28页 |
| 3.4 退火前后器件稳定性测试 | 第28-30页 |
| 3.5 高倍率透射电子显微镜测试 | 第30-33页 |
| 3.5.1 样品制备 | 第30-31页 |
| 3.5.2 高倍率透射电子显微镜测试 | 第31-33页 |
| 3.6 对照试验 | 第33-35页 |
| 3.6.1 电学特性对照试验 | 第33-34页 |
| 3.6.2 高倍率透射电子显微镜对照实验 | 第34-35页 |
| 本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 基于退火效应的碲化钼PN结与反相器 | 第37-49页 |
| 4.1 基于退火效应的碲化钼PN结 | 第37-45页 |
| 4.1.1 PN结的构成及原理 | 第38-39页 |
| 4.1.2 碲化钼PN结的性能测试 | 第39-41页 |
| 4.1.3 碲化钼PN结的光学传感实验 | 第41-45页 |
| 4.2 基于退火效应的碲化钼反相器 | 第45-48页 |
| 4.2.1 反相器构成及原理 | 第45-47页 |
| 4.2.2 碲化钼反相器性能测试 | 第47-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 5.1 本文的主要工作 | 第49页 |
| 5.2 本文的创新性 | 第49-50页 |
| 5.3 未来工作展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
