摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第11-13页 |
1.2 光谱探测技术的发展概况 | 第13-21页 |
1.2.1 光谱成像技术的研究现状 | 第13-18页 |
1.2.2 高集成光谱探测技术研究现状 | 第18-21页 |
1.3 多层楔形薄膜滤光片的研究进展 | 第21-24页 |
1.4 论文研究目的 | 第24-25页 |
1.5 论文研究内容 | 第25-26页 |
1.6 本章小结 | 第26-27页 |
第2章 离子束溅射沉积薄膜特性解析 | 第27-44页 |
2.1 溅射镀膜技术的发展概况 | 第27-30页 |
2.2 离子束溅射参量的表征 | 第30-31页 |
2.3 离子束的输运及非热平衡沉积薄膜过程 | 第31-33页 |
2.3.1 运行离子的碰撞现象解析 | 第31-32页 |
2.3.2 非热平衡条件下的离子束溅射沉积薄膜原理 | 第32-33页 |
2.4 离子束溅射粒子的基本性质 | 第33-38页 |
2.4.1 溅射原子通量的构成 | 第34页 |
2.4.2 溅射原子通量的分布 | 第34-36页 |
2.4.3 溅射原子能量的分布 | 第36-37页 |
2.4.4 氧化物的溅射特点 | 第37-38页 |
2.5 控制薄膜沉积速率的相关因素 | 第38-39页 |
2.6 离子束溅射沉积薄膜厚度分布理论模型 | 第39-43页 |
2.7 本章小结 | 第43-44页 |
第3章 楔形薄膜沉积特性研究 | 第44-68页 |
3.1 离子束溅射薄膜沉积系统 | 第44-50页 |
3.1.1 真空系统 | 第45-46页 |
3.1.2 离子束溅射系统 | 第46-48页 |
3.1.3 膜厚控制系统 | 第48-50页 |
3.2 薄膜沉积工艺的正交实验研究 | 第50-55页 |
3.3 薄膜材料光学常数的标定 | 第55-58页 |
3.4 楔形薄膜沉积方法研究 | 第58-67页 |
3.4.1 楔形薄膜物理模型研究 | 第59-60页 |
3.4.2 薄膜沉积厚度分布研究 | 第60-62页 |
3.4.3 遮掩挡板修正函数设计 | 第62-64页 |
3.4.4 遮掩挡板线型设计 | 第64-65页 |
3.4.5 失配误差的趋势匹配优化 | 第65-67页 |
3.5 本章小结 | 第67-68页 |
第4章 楔形滤光片的薄膜设计研究 | 第68-90页 |
4.1 楔形滤光片技术指标 | 第68-69页 |
4.2 薄膜设计基础理论 | 第69-78页 |
4.2.1 光学薄膜矩阵理论 | 第69-74页 |
4.2.2 窄带通滤光膜设计理论 | 第74-76页 |
4.2.3 干涉截止滤光膜设计理论 | 第76-78页 |
4.3 楔形滤光片薄膜结构设计方法研究 | 第78-89页 |
4.3.1 初始膜系设计分析 | 第79-82页 |
4.3.2 双面镀膜设计方法 | 第82-84页 |
4.3.3 多界面组合设计方法 | 第84-89页 |
4.4 本章小结 | 第89-90页 |
第5章 楔形薄膜滤光片的制备研究 | 第90-97页 |
5.1 基片表面清洁方法研究 | 第90-93页 |
5.2 薄膜厚度监控技术研究 | 第93-96页 |
5.2.1 极值法监控曲线分析 | 第93-94页 |
5.2.2 导纳轨迹图分析 | 第94-96页 |
5.3 楔形滤光片制备工艺流程 | 第96页 |
5.4 本章小结 | 第96-97页 |
第6章 楔形薄膜滤光片表征方法研究 | 第97-110页 |
6.1 楔形滤光片光学特性的表征 | 第97-106页 |
6.1.1 光谱特性测试方案 | 第97-99页 |
6.1.2 光谱空间平均效应研究 | 第99-100页 |
6.1.3 小光斑测试方法研究 | 第100-106页 |
6.2 楔形滤光片非光学特性的表征 | 第106-109页 |
6.2.1 表面形貌测试 | 第106-108页 |
6.2.2 附着力与硬度测试 | 第108-109页 |
6.2.3 环境适应性测试 | 第109页 |
6.3 本章小结 | 第109-110页 |
第7章 结论与展望 | 第110-113页 |
7.1 论文主要工作 | 第110-111页 |
7.2 论文创新点 | 第111-112页 |
7.3 研究展望 | 第112-113页 |
参考文献 | 第113-123页 |
致谢 | 第123-125页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第125页 |