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用于高集成光谱技术的多层楔形薄膜滤光片研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-27页
    1.1 课题研究背景及意义第11-13页
    1.2 光谱探测技术的发展概况第13-21页
        1.2.1 光谱成像技术的研究现状第13-18页
        1.2.2 高集成光谱探测技术研究现状第18-21页
    1.3 多层楔形薄膜滤光片的研究进展第21-24页
    1.4 论文研究目的第24-25页
    1.5 论文研究内容第25-26页
    1.6 本章小结第26-27页
第2章 离子束溅射沉积薄膜特性解析第27-44页
    2.1 溅射镀膜技术的发展概况第27-30页
    2.2 离子束溅射参量的表征第30-31页
    2.3 离子束的输运及非热平衡沉积薄膜过程第31-33页
        2.3.1 运行离子的碰撞现象解析第31-32页
        2.3.2 非热平衡条件下的离子束溅射沉积薄膜原理第32-33页
    2.4 离子束溅射粒子的基本性质第33-38页
        2.4.1 溅射原子通量的构成第34页
        2.4.2 溅射原子通量的分布第34-36页
        2.4.3 溅射原子能量的分布第36-37页
        2.4.4 氧化物的溅射特点第37-38页
    2.5 控制薄膜沉积速率的相关因素第38-39页
    2.6 离子束溅射沉积薄膜厚度分布理论模型第39-43页
    2.7 本章小结第43-44页
第3章 楔形薄膜沉积特性研究第44-68页
    3.1 离子束溅射薄膜沉积系统第44-50页
        3.1.1 真空系统第45-46页
        3.1.2 离子束溅射系统第46-48页
        3.1.3 膜厚控制系统第48-50页
    3.2 薄膜沉积工艺的正交实验研究第50-55页
    3.3 薄膜材料光学常数的标定第55-58页
    3.4 楔形薄膜沉积方法研究第58-67页
        3.4.1 楔形薄膜物理模型研究第59-60页
        3.4.2 薄膜沉积厚度分布研究第60-62页
        3.4.3 遮掩挡板修正函数设计第62-64页
        3.4.4 遮掩挡板线型设计第64-65页
        3.4.5 失配误差的趋势匹配优化第65-67页
    3.5 本章小结第67-68页
第4章 楔形滤光片的薄膜设计研究第68-90页
    4.1 楔形滤光片技术指标第68-69页
    4.2 薄膜设计基础理论第69-78页
        4.2.1 光学薄膜矩阵理论第69-74页
        4.2.2 窄带通滤光膜设计理论第74-76页
        4.2.3 干涉截止滤光膜设计理论第76-78页
    4.3 楔形滤光片薄膜结构设计方法研究第78-89页
        4.3.1 初始膜系设计分析第79-82页
        4.3.2 双面镀膜设计方法第82-84页
        4.3.3 多界面组合设计方法第84-89页
    4.4 本章小结第89-90页
第5章 楔形薄膜滤光片的制备研究第90-97页
    5.1 基片表面清洁方法研究第90-93页
    5.2 薄膜厚度监控技术研究第93-96页
        5.2.1 极值法监控曲线分析第93-94页
        5.2.2 导纳轨迹图分析第94-96页
    5.3 楔形滤光片制备工艺流程第96页
    5.4 本章小结第96-97页
第6章 楔形薄膜滤光片表征方法研究第97-110页
    6.1 楔形滤光片光学特性的表征第97-106页
        6.1.1 光谱特性测试方案第97-99页
        6.1.2 光谱空间平均效应研究第99-100页
        6.1.3 小光斑测试方法研究第100-106页
    6.2 楔形滤光片非光学特性的表征第106-109页
        6.2.1 表面形貌测试第106-108页
        6.2.2 附着力与硬度测试第108-109页
        6.2.3 环境适应性测试第109页
    6.3 本章小结第109-110页
第7章 结论与展望第110-113页
    7.1 论文主要工作第110-111页
    7.2 论文创新点第111-112页
    7.3 研究展望第112-113页
参考文献第113-123页
致谢第123-125页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第125页

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