| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 光催化技术概论 | 第12-16页 |
| 1.1.1 光催化技术的基本原理 | 第12-14页 |
| 1.1.2 光催化技术的研究进展 | 第14-16页 |
| 1.2 提高半导体光催化性能的有效方法 | 第16-19页 |
| 1.2.1 半导体光敏化 | 第17页 |
| 1.2.2 半导体元素掺杂 | 第17-18页 |
| 1.2.3 半导体表面贵金属沉积 | 第18页 |
| 1.2.4 半导体形貌调控 | 第18页 |
| 1.2.5 半导体复合 | 第18-19页 |
| 1.3 氮化碳 | 第19-22页 |
| 1.3.1 氮化碳概论 | 第19-20页 |
| 1.3.2 石墨相氮化碳研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3.3 石墨相氮化碳形貌调控 | 第21页 |
| 1.3.4 石墨相氮化碳复合改性 | 第21-22页 |
| 1.4 硫化铅 | 第22-23页 |
| 1.5 二氧化锡 | 第23-24页 |
| 1.6 二氧化钼 | 第24页 |
| 1.7 本论文的选题依据和主要研究内容 | 第24-27页 |
| 1.7.1 选题依据 | 第24-25页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 PbS/GL-C_3N_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第27-43页 |
| 2.1 实验部分 | 第27-31页 |
| 2.1.1 实验试剂和仪器 | 第27-29页 |
| 2.1.2 光催化剂的制备 | 第29页 |
| 2.1.3 光催化剂的表征 | 第29-30页 |
| 2.1.4 光催化活性实验 | 第30-31页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第31-42页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD)和红外光谱(FT-IR)分析 | 第31-32页 |
| 2.2.2 比表面积(BET)分析 | 第32-33页 |
| 2.2.3 透射电镜(TEM)分析 | 第33-34页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第34-36页 |
| 2.2.5 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第36页 |
| 2.2.6 电化学性能分析 | 第36-38页 |
| 2.2.7 光催化性能分析 | 第38-39页 |
| 2.2.8 光催化循环稳定性分析 | 第39页 |
| 2.2.9 光催化机理分析 | 第39-42页 |
| 2.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 SnO_2/GL-C_3N_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第43-59页 |
| 3.1 实验部分 | 第43-46页 |
| 3.1.1 实验试剂和仪器 | 第43-45页 |
| 3.1.2 光催化剂的制备 | 第45页 |
| 3.1.3 光催化剂的表征 | 第45页 |
| 3.1.4 光催化活性实验 | 第45-46页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第46-58页 |
| 3.2.1 X射线衍射(XRD)和红外光谱(FT-IR)分析 | 第46-47页 |
| 3.2.2 比表面积(BET)分析 | 第47页 |
| 3.2.3 透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)分析 | 第47-49页 |
| 3.2.4 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第49-51页 |
| 3.2.5 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第51-52页 |
| 3.2.6 荧光光谱分析(PL)分析 | 第52-53页 |
| 3.2.7 电化学性能分析 | 第53-54页 |
| 3.2.8 光催化性能分析 | 第54-55页 |
| 3.2.9 光催化循环稳定性分析 | 第55-56页 |
| 3.2.10 光催化机理分析 | 第56-58页 |
| 3.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 MoO_2/GL-C_3N_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第59-73页 |
| 4.1 实验部分 | 第59-61页 |
| 4.1.1 实验试剂和仪器 | 第59-61页 |
| 4.1.2 光催化剂的制备 | 第61页 |
| 4.1.3 光催化剂的表征 | 第61页 |
| 4.1.4 光催化活性实验 | 第61页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第61-72页 |
| 4.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第61-62页 |
| 4.2.2 红外光谱(FT-IR)和比表面积(BET)分析 | 第62-63页 |
| 4.2.3 透射电镜(TEM)和扫描电镜(SEM)分析 | 第63-64页 |
| 4.2.4 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第64-66页 |
| 4.2.5 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第66-67页 |
| 4.2.6 电化学性能分析 | 第67-68页 |
| 4.2.7 光催化性能分析 | 第68-69页 |
| 4.2.8 光催化循环稳定性分析 | 第69-70页 |
| 4.2.9 光催化机理分析 | 第70-72页 |
| 4.3 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 5.1 结论 | 第73-74页 |
| 5.2 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第92页 |
