| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 图表清单 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12-14页 |
| ·纳米技术与材料的新发展 | 第12-13页 |
| ·纳米技术与材料的概念 | 第13页 |
| ·纳米材料的性能 | 第13-14页 |
| ·一维纳米材料 | 第14-16页 |
| ·一维纳米材料的生长 | 第14-15页 |
| ·一维纳米材料的特性及应用 | 第15-16页 |
| ·SiC 晶须 | 第16-22页 |
| ·SiC 晶须的性能 | 第17页 |
| ·SiC 晶须的制备方法 | 第17-21页 |
| ·固相法 | 第18-19页 |
| ·液相法 | 第19-20页 |
| ·气相法 | 第20-21页 |
| ·SiC 晶须的生长机理 | 第21-22页 |
| ·SiC 晶须的应用 | 第22-24页 |
| ·激光制备碳质纳米材料 | 第24页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 激光照射纳米SiC 材料温度场有限元分析 | 第26-44页 |
| ·激光器输出激光分析 | 第26-29页 |
| ·激光照射纳米SiC 模型的建立 | 第29-36页 |
| ·几何模型的建立 | 第30-32页 |
| ·物理模型的建立 | 第32-36页 |
| ·激光照射纳米SiC 模型温度场模拟 | 第36-43页 |
| ·加载求解 | 第36-37页 |
| ·激光工艺参数对温度场的影响 | 第37-43页 |
| ·激光功率的影响 | 第37-39页 |
| ·激光扫描速度的影响 | 第39-41页 |
| ·激光光斑直径的影响 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 激光照射纳米SiC 原位生长晶须试验 | 第44-60页 |
| ·纳米SiC 材料试样制备 | 第44-46页 |
| ·不同有机粘结剂的配制 | 第44-45页 |
| ·冷等静压原理及压块素坯成型 | 第45-46页 |
| ·Nd:YAG 激光照射纳米SiC 试验 | 第46-49页 |
| ·试件照射层显微观察 | 第49-58页 |
| ·试件照射层相组成 | 第50-51页 |
| ·样件照射层结构分析 | 第51-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 激光照射纳米SiC 原位生长晶须机理研究 | 第60-79页 |
| ·激光照射下纳米SiC 晶须生长机理 | 第60-68页 |
| ·晶须生长的形态 | 第60-63页 |
| ·晶体生长速度对实际晶体的影响 | 第60-62页 |
| ·晶须的光洁度、长径比和直晶率 | 第62-63页 |
| ·晶须生长的过程 | 第63-68页 |
| ·晶须晶核的形成 | 第63-65页 |
| ·晶须生长的初级阶段 | 第65-67页 |
| ·晶须生长的二次增厚阶段或过生长阶段 | 第67-68页 |
| ·晶须停止生长 | 第68页 |
| ·激光参数对SiC 晶须生长的影响机理 | 第68-74页 |
| ·C0_2 激光器参数对SiC 晶须生长的影响 | 第69-71页 |
| ·Nd:YAG 激光器参数对SiC 晶须生长的影响 | 第71-74页 |
| ·粘结剂及激光参数对SiC 晶须生长的影响机理 | 第74-78页 |
| ·粘结剂对SiC 晶须生长的影响 | 第74-78页 |
| ·照射层的晶须形态 | 第74-76页 |
| ·粘结剂对晶须生长机制的影响 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第五章 总结展望 | 第79-83页 |
| ·本文工作总结 | 第79-81页 |
| ·对今后工作的展望 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第88页 |