| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第12-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-18页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3 论文的主要研究工作 | 第18-19页 |
| 1.4 论文的主要创新点 | 第19-20页 |
| 第2章 微弧氧化的作用机理及控制策略设计 | 第20-34页 |
| 2.1 微弧氧化技术的理论概述 | 第20-23页 |
| 2.1.1 焦耳热机理 | 第20-21页 |
| 2.1.2 驱动作用机理 | 第21页 |
| 2.1.3 电子雪崩机理 | 第21-23页 |
| 2.2 微弧氧化工艺加工过程 | 第23-28页 |
| 2.2.1 阳极氧化阶段 | 第25-26页 |
| 2.2.2 电子雪崩阶段 | 第26页 |
| 2.2.3 膜层生长阶段 | 第26-27页 |
| 2.2.4 断电冷却阶段 | 第27-28页 |
| 2.3 微弧氧化膜层质量的影响因素分析 | 第28-31页 |
| 2.3.1 膜层厚度的主要影响因素 | 第28-29页 |
| 2.3.2 膜层硬度的主要影响因素 | 第29-30页 |
| 2.3.3 膜层粗糙度的主要影响因素 | 第30-31页 |
| 2.4 微弧氧化控制策略设计 | 第31-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-34页 |
| 第3章 基于改进PSO-SVM算法的工艺加工模型建立 | 第34-48页 |
| 3.1 改进PSO-SVM算法概述 | 第34-37页 |
| 3.1.1 支持向量机原理 | 第34-35页 |
| 3.1.2 粒子群优化算法 | 第35-36页 |
| 3.1.3 改进PSO-SVM算法的优越性 | 第36-37页 |
| 3.2 工艺加工模型建立 | 第37-44页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第44-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 电气系统设计 | 第48-58页 |
| 4.1 电气系统方案设计 | 第48-50页 |
| 4.2 EMI滤波器 | 第50-51页 |
| 4.3 整流滤波电路与参数计算 | 第51-54页 |
| 4.3.1 三相整流电路移相触发电路设计 | 第52-53页 |
| 4.3.2 三相整流电路参数计算 | 第53-54页 |
| 4.4 逆变升压式电路模块 | 第54-56页 |
| 4.5 斩波逆变电路模块 | 第56-57页 |
| 4.6 本章总结 | 第57-58页 |
| 第5章 电源系统控制器设计 | 第58-67页 |
| 5.1 电源系统控制器框图设计 | 第58-59页 |
| 5.1.1 控制器设计的要求 | 第58-59页 |
| 5.1.2 控制系统硬件设计 | 第59页 |
| 5.2 微控制器选择与介绍 | 第59-60页 |
| 5.3 电信号反馈电路设计 | 第60-63页 |
| 5.3.1 电流信号采集电路 | 第61-62页 |
| 5.3.2 电压信号采集电路 | 第62-63页 |
| 5.4 PWM信号驱动电路 | 第63-65页 |
| 5.5 上位机与ARM通信接口设计 | 第65-66页 |
| 5.6 本章总结 | 第66-67页 |
| 第6章 微弧氧化多目标优化模糊控制方法 | 第67-76页 |
| 6.1 模糊控制基本理论 | 第67-68页 |
| 6.1.1 模糊控制系统原理 | 第67-68页 |
| 6.1.2 模糊控制器结构 | 第68页 |
| 6.2 多目标优化模糊控制方法 | 第68-72页 |
| 6.2.1 控制器的输入与输出 | 第69页 |
| 6.2.2 控制器结构 | 第69-71页 |
| 6.2.3 模糊规则及模糊推理 | 第71-72页 |
| 6.2.4 基于影响因子权重排序的反模糊化 | 第72页 |
| 6.3 实验结果与分析 | 第72-75页 |
| 6.4 本章总结 | 第75-76页 |
| 第7章 总结与展望 | 第76-78页 |
| 7.1 总结 | 第76-77页 |
| 7.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 附录A 电源系统电气部分电路图 | 第83-84页 |
| 附录B 电源系统控制部分电路图 | 第84-85页 |
| 在学期间研究成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |