| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-35页 |
| ·环境污染 | 第11-19页 |
| ·水污染 | 第12-14页 |
| ·重金属污染 | 第14-16页 |
| ·水体中重金属的形态变化 | 第16-17页 |
| ·重金属镉的污染 | 第17-19页 |
| ·水中痕量金属离子常用的分离富集的方法 | 第19-22页 |
| ·沉淀法 | 第20页 |
| ·挥发和蒸馏分析法 | 第20页 |
| ·溶剂萃取法 | 第20-21页 |
| ·离子交换分析法 | 第21页 |
| ·硅胶和活性碳法 | 第21页 |
| ·液膜法 | 第21页 |
| ·浮选富集法 | 第21-22页 |
| ·分子印迹聚合物(MIP) | 第22-29页 |
| ·分子印迹技术 | 第22-23页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第23-24页 |
| ·分子印迹聚合物 | 第24-26页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第26-27页 |
| ·分子印迹聚合物的应用 | 第27-29页 |
| ·离子印迹聚合物(IIP) | 第29-32页 |
| ·离子印迹聚合物 | 第29-30页 |
| ·离子印迹聚合物的制备方法 | 第30-32页 |
| ·离子印迹聚合物在固相萃取中的应用 | 第32页 |
| ·研究内容与意义 | 第32-35页 |
| 第2章 实验部分 | 第35-43页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第35-38页 |
| ·实验仪器 | 第35页 |
| ·实验试剂 | 第35-36页 |
| ·储备液配制 | 第36-38页 |
| ·离子印迹聚合物的制备 | 第38-39页 |
| ·活化硅胶微球的制备 | 第38页 |
| ·Cd(Ⅱ)离子复合材料IIP-MPS/SiO_2的制备 | 第38页 |
| ·复合材料MPS/SiO_2的制备 | 第38-39页 |
| ·离子印迹聚合物制备工艺条件优化 | 第39页 |
| ·IIP-MPS/SiO_2的红外和热分析 | 第39页 |
| ·IIP-MPS/SiO_2对Cd(Ⅱ)的结合能力研究 | 第39-41页 |
| ·吸附容量的研究 | 第40页 |
| ·吸附平衡时间的影响 | 第40页 |
| ·pH值的影响 | 第40页 |
| ·温度的影响 | 第40-41页 |
| ·重复利用性实验 | 第41页 |
| ·吸附选择性的影响 | 第41页 |
| ·FASS对Cd(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)的测量 | 第41-43页 |
| ·原子吸收仪器工作条件 | 第41-42页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第42页 |
| ·回收率实验 | 第42-43页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第43-61页 |
| ·离子印迹聚合物(IIP-MPS/SiO_2)的制备的优化条件 | 第43-47页 |
| ·聚合反应步骤 | 第43-44页 |
| ·反应温度对吸附量的影响 | 第44页 |
| ·反应时间对吸附量的影响 | 第44-45页 |
| ·模板离子加入顺序对吸附量的影响 | 第45-46页 |
| ·不同交联剂对吸附量的影响 | 第46-47页 |
| ·溶剂对吸附量的影响 | 第47页 |
| ·IIP-MPS/SiO_2的红外光谱分析 | 第47-48页 |
| ·IIP-MPS/SiO_2的热重分析 | 第48-50页 |
| ·IIP-MPS/SiO_2与Cd~(2+)的结合能力研究 | 第50-54页 |
| ·吸附容量 | 第50-51页 |
| ·吸附速率 | 第51-52页 |
| ·pH值的影响 | 第52页 |
| ·温度的影响 | 第52-53页 |
| ·重复利用效率 | 第53-54页 |
| ·吸附选择性 | 第54-55页 |
| ·FASS对Cd(Ⅱ)、Zn(Ⅱ)、Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)和Cu(Ⅱ)的测量 | 第55-61页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第55-58页 |
| ·回收率 | 第58-61页 |
| 第4章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
