铁氧体耐高温磁控溅射金属化膜系及产业化关键问题的研究
致谢 | 第6-7页 |
摘要 | 第7-9页 |
Abstract | 第9-10页 |
第1章 绪论 | 第16-30页 |
1.1 片式电感的产业分析 | 第16-18页 |
1.2 片式电感介绍 | 第18-21页 |
1.2.1 片式电感种类 | 第18-19页 |
1.2.2 铁氧体的材料特性 | 第19-21页 |
1.3 金属化研究现状 | 第21-27页 |
1.3.1 金属化的方法 | 第21-23页 |
1.3.2 存在的问题 | 第23-25页 |
1.3.3 研究现状 | 第25-27页 |
1.4 本文研究动机 | 第27-28页 |
1.5 内容和章节安排 | 第28-30页 |
第2章 金属化膜层设计与制备 | 第30-41页 |
2.1 多层复合膜系设计 | 第30-32页 |
2.2 金属化膜层制备 | 第32-40页 |
2.2.1 磁控溅射金属化原理 | 第32-34页 |
2.2.2 铁氧体磁芯 | 第34-35页 |
2.2.3 实验设备 | 第35-37页 |
2.2.4 实验过程 | 第37-40页 |
2.3 本章小结 | 第40-41页 |
第3章 金属化薄膜可靠性研究 | 第41-70页 |
3.1 焊接浸润性 | 第41-42页 |
3.2 高温耐焊性 | 第42-58页 |
3.2.1 Ni-Cu-Sn合金系统 | 第42-44页 |
3.2.2 高温熔蚀实验研究 | 第44-57页 |
3.2.3 阻挡层材料的选择 | 第57-58页 |
3.2.4 结论 | 第58页 |
3.3 结合力强度 | 第58-67页 |
3.3.1 影响结合力的因素 | 第58-62页 |
3.3.2 过渡层材料的选择 | 第62-64页 |
3.3.3 铁氧体与金属化薄膜界面结合机制 | 第64-67页 |
3.4 电感值衰减 | 第67-68页 |
3.5 本章小结 | 第68-70页 |
第4章 产业化设备与实例 | 第70-91页 |
4.1 片式电感磁控溅射金属化生产线 | 第70-87页 |
4.1.1 设备简介 | 第70-71页 |
4.1.2 运行过程 | 第71-74页 |
4.1.3 软件设计 | 第74-83页 |
4.1.4 Ni的磁控溅射问题 | 第83-84页 |
4.1.5 掩模材料选择和制作 | 第84-87页 |
4.2 激光辅助刻蚀 | 第87-90页 |
4.2.1 工艺过程 | 第87-89页 |
4.2.2 对比验证 | 第89页 |
4.2.3 结论 | 第89-90页 |
4.3 本章小结 | 第90-91页 |
第5章 总结与展望 | 第91-93页 |
5.1 结论 | 第91-92页 |
5.2 创新点 | 第92页 |
5.3 展望 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-100页 |
[作者简历及在校期间取得的科研成果] | 第100页 |