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溶剂对EDOT液相沉降聚合制备导电PEDOT/PI复合膜的影响及PEDOT/PI膜电化学镀铜的研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
第1章 绪论第13-30页
    1.1 引言第13页
    1.2 导电聚合物第13-16页
        1.2.1 导电聚合物的种类第13页
        1.2.2 本征导电聚合物的导电机理第13-14页
        1.2.3 主要的本征导电聚合物第14-16页
    1.3 PEDOT膜的制备方法第16-22页
        1.3.1 电化学聚合法第16-17页
        1.3.2 物理涂覆法第17-18页
        1.3.3 原位聚合法第18-22页
        1.3.4 其他聚合方法第22页
    1.4 合成条件对PEDOT结构与性能的影响第22-24页
        1.4.1 溶剂的影响第22-23页
        1.4.2 温度的影响第23-24页
    1.5 PEDOT的应用第24-26页
    1.6 柔性无胶覆铜板第26-27页
    1.7 本课题的研究意义、主要内容及创新之处第27-30页
        1.7.1 研究意义第27-28页
        1.7.2 研究思路第28-29页
        1.7.3 主要内容第29页
        1.7.4 本课题创新之处第29-30页
第2章 实验部分第30-38页
    2.1 实验原料第30-31页
    2.2 仪器和设备第31页
    2.3 PI膜表面氧化剂的吸附第31-32页
        2.3.1 PI膜表面水解及过氧化处理第31-32页
        2.3.2 氧化剂FeCl_3的吸附第32页
    2.4 EDOT液相沉降聚合第32页
    2.5 PEDOT/PI膜电化学镀铜第32-33页
    2.6 测试与表征第33-38页
        2.6.1 FeCl_3溶解度的测定第33页
        2.6.2 FeCl_3溶液相对粘度的测定第33页
        2.6.3 FeCl_3吸附量的测定第33-34页
        2.6.4 活性氧含量及总氧化剂含量的测定第34-35页
        2.6.5 衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)分析第35页
        2.6.6 扫描电子显微镜(SEM)分析第35页
        2.6.7 紫外-可见近红外吸收光谱(UV-Vis-NIR)分析第35-36页
        2.6.8 X-射线光电子能谱(XPS)分析第36页
        2.6.9 拉曼光谱(Raman)分析第36页
        2.6.10 导电原子力显微镜(C-AFM)分析第36页
        2.6.11 PEDOT膜厚度的测定第36页
        2.6.12 PEDOT膜表面电阻的测定第36-37页
        2.6.13 PEDOT膜附着力的测定第37页
        2.6.1490°剥离强度测定第37-38页
第3章 溶剂对氧化剂FeCl_3在PI膜表面吸附和EDOT液相沉降聚合的影响第38-52页
    3.1 引言第38页
    3.2 溶剂对氧化剂FeCl_3在PI膜表面吸附的影响第38-43页
        3.2.1 溶剂对氧化剂FeCl_3在PI膜表面吸附量的影响第38-40页
        3.2.2 溶剂对氧化剂FeCl_3在PI膜表面吸附形貌的影响第40-42页
        3.2.3 氧化剂FeCl_3浓度对PI膜表面总氧化剂当量的影响第42-43页
    3.3 液相沉降聚合PEDOT膜的结构第43-50页
        3.3.1 液相沉降聚合PEDOT膜的红外光谱第43-44页
        3.3.2 液相沉降聚合PEDOT膜的拉曼光谱第44-45页
        3.3.3 液相沉降聚合PEDOT膜的紫外-可见近红外光谱第45-46页
        3.3.4 液相沉降聚合PEDOT膜XPS能谱图第46-48页
        3.3.5 液相沉降聚合PEDOT膜的SEM/EDS谱图第48-49页
        3.3.6 液相沉降聚合PEDOT膜的C-AFM观察第49-50页
    3.4 氧化剂溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜表面电阻的影响第50-51页
    3.5 本章小结第51-52页
第4章 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT结构与性能的影响第52-72页
    4.1 引言第52页
    4.2 单体溶剂与氧化剂和单体的相互作用研究第52-55页
        4.2.1 单体溶剂与EDOT单体的相互作用第52-54页
        4.2.2 单体溶剂与氧化剂FeCl_3的相互作用第54-55页
    4.3 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT共轭链结构的影响第55-59页
        4.3.1 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜红外光谱的影响第55-56页
        4.3.2 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜拉曼光谱的影响第56-59页
    4.4 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜掺杂度的影响第59-64页
        4.4.1 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜紫外-可见近红外光谱的影响第59-60页
        4.4.2 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜XPS谱图的影响第60-64页
    4.5 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜微观形貌的影响第64-65页
    4.6 单体溶剂对PEDOT膜表面形貌的影响及导电性的C-AFM分析第65-67页
    4.7 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT/PI膜粘附性的影响第67-68页
    4.8 单体溶剂对液相沉降聚合PEDOT膜导电性的影响第68-70页
    4.9 本章小结第70-72页
第5章 聚合工艺参数对EDOT液相沉降聚合的影响第72-79页
    5.1 引言第72页
    5.2 聚合时间对PEDOT/PI导电膜表面电阻的影响第72-73页
    5.3 H2O2浓度对PEDOT/PI膜表面电阻的影响第73-75页
    5.4 FeCl_3浓度对PEDOT/PI膜表面电阻的影响第75-76页
    5.5 EDOT浓度对PEDOT/PI膜表面电阻的影响第76-78页
    5.6 本章小结第78-79页
第6章 PEDOT/PI膜表面电化学镀铜研究第79-89页
    6.1 引言第79页
    6.2 PEDOT/PI膜表面电化学镀铜第79-83页
        6.2.1 PEDOT/PI膜表面电化学镀铜的实物照片第79-80页
        6.2.2 PEDOT/PI膜表面电化学镀铜过程第80-81页
        6.2.3 电流密度对电镀铜箔剥离强度的影响第81-82页
        6.2.4 电镀铜箔界面破坏分析第82-83页
    6.3 CuCl_2为共氧化剂对PEDOT膜的制备及电化学镀铜的影响第83-88页
        6.3.1 CuCl_2为共氧化剂对液相沉降聚合PEDOT膜表面电阻的影响第83-84页
        6.3.2 CuCl_2为共氧化剂对液相沉降聚合PEDOT膜表面形貌的影响第84-85页
        6.3.3 CuCl_2为共氧化剂液相沉降聚合PEDOT膜的XPS谱图第85-86页
        6.3.4 CuCl_2为共氧化剂液相沉降聚合PEDOT膜的XRD谱图第86-87页
        6.3.5 CuCl_2为共氧化剂液相沉降聚合PEDOT膜电化学镀铜SEM第87-88页
        6.3.6 氧化剂CuCl_2的引入对电镀铜箔剥离强度的影响第88页
    6.4 本章小结第88-89页
结论第89-90页
参考文献第90-98页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第98-99页
致谢第99-100页
附件第100页

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