NiO基量子点发光二极管的制备及其性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 NiO的基本性能 | 第12-15页 |
| 1.2.1 NiO的结构特性 | 第12-13页 |
| 1.2.2 NiO的气敏特性 | 第13页 |
| 1.2.3 NiO的电致变色特性 | 第13-14页 |
| 1.2.4 NiO的光电特性 | 第14-15页 |
| 1.3 NiO的制备方法 | 第15-19页 |
| 1.3.1 磁控溅射法 | 第15-16页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 热喷雾法 | 第17页 |
| 1.3.4 溶胶凝胶法 | 第17-18页 |
| 1.3.5 真空蒸镀法 | 第18页 |
| 1.3.6 溶液法 | 第18-19页 |
| 1.4 NiO的应用 | 第19-23页 |
| 1.4.1 电致变色材料 | 第20页 |
| 1.4.2 紫外探测器 | 第20-21页 |
| 1.4.3 气体传感器 | 第21页 |
| 1.4.4 太阳能电池 | 第21-22页 |
| 1.4.5 发光二极管 | 第22-23页 |
| 1.5 量子点发光二极管概述 | 第23-29页 |
| 1.5.1 量子点简介及特性 | 第23-25页 |
| 1.5.1.1 简介 | 第23-24页 |
| 1.5.1.2 特性 | 第24-25页 |
| 1.5.1.3 应用 | 第25页 |
| 1.5.2 量子点发光二极管简介 | 第25-26页 |
| 1.5.3 量子点发光二极管分类 | 第26-29页 |
| 1.5.4 量子点发光二极管工作原理 | 第29页 |
| 1.6 本论文研究思路及内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验方法与表征 | 第31-38页 |
| 2.1 实验试剂与设备 | 第31-32页 |
| 2.1.1 试剂 | 第31页 |
| 2.1.2 设备 | 第31-32页 |
| 2.2 NiO的制备 | 第32-33页 |
| 2.3 量子点的制备 | 第33页 |
| 2.4 氧化锌的制备 | 第33页 |
| 2.5 表征方法 | 第33-38页 |
| 2.5.1 X射线衍射仪(XRD) | 第33-34页 |
| 2.5.2 透射电子显微镜(TEM) | 第34-35页 |
| 2.5.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第35页 |
| 2.5.4 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第35-36页 |
| 2.5.5 紫外光电子能谱仪(UPS) | 第36页 |
| 2.5.6 紫外-可见吸收光谱(UV-Vis) | 第36页 |
| 2.5.7 电感耦合高频等离子光谱仪(ICP) | 第36-37页 |
| 2.5.8 发光二极管测试系统 | 第37-38页 |
| 第三章 NiO纳米晶的性能表征 | 第38-43页 |
| 3.1 XRD分析 | 第38-39页 |
| 3.2 TEM分析 | 第39页 |
| 3.3 ICP分析 | 第39-40页 |
| 3.4 UV-Vis分析 | 第40-41页 |
| 3.5 UPS分析 | 第41-42页 |
| 3.6 小结 | 第42-43页 |
| 第四章 NiO应用于量子点发光二极管 | 第43-63页 |
| 4.1 全无机结构NiO基量子点发光二极管 | 第43-53页 |
| 4.1.1 器件结构 | 第43-44页 |
| 4.1.2 影响因素探讨 | 第44-52页 |
| 4.1.2.1 基片有无清洗 | 第44-45页 |
| 4.1.2.2 有无紫外臭氧处理NiO薄膜 | 第45-47页 |
| 4.1.2.3 NiO浓度与旋涂速率的影响 | 第47-49页 |
| 4.1.2.4 ZnO旋涂速率的选取 | 第49-50页 |
| 4.1.2.5 最佳全无机QLED | 第50-52页 |
| 4.1.3 小结 | 第52-53页 |
| 4.2 结构优化的NiO基量子点发光二极管 | 第53-63页 |
| 4.2.1 器件结构 | 第54-55页 |
| 4.2.2 器件的制备 | 第55-56页 |
| 4.2.3 分析与讨论 | 第56-62页 |
| 4.2.4 小结 | 第62-63页 |
| 结论与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-75页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 附件 | 第77页 |
