Ni-Ti形状记忆合金电化学抛光试验及其抛光性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 Ni-Ti形状记忆合金性能 | 第10-13页 |
| 1.2.1 Ni-Ti合金的形状记忆特性 | 第10-11页 |
| 1.2.2 Ni-Ti合金的超弹性 | 第11页 |
| 1.2.3 Ni-Ti合金的生物相容性 | 第11-13页 |
| 1.2.4 Ni-Ti合金的应用 | 第13页 |
| 1.3 电化学抛光 | 第13-20页 |
| 1.3.1 电化学抛光概述 | 第13-14页 |
| 1.3.2 电化学抛光的理论基础 | 第14-18页 |
| 1.3.3 电化学抛光的特点 | 第18-19页 |
| 1.3.4 Ni-Ti合金电化学抛光研究进展 | 第19-20页 |
| 1.4 本课题来源及研究内容 | 第20-22页 |
| 1.4.1 本课题来源 | 第20页 |
| 1.4.2 本课题研究的内容 | 第20-22页 |
| 第二章 试验材料与试验方法 | 第22-27页 |
| 2.1 试验材料及试验设备 | 第22-24页 |
| 2.1.1 试验材料及试样制备 | 第22页 |
| 2.1.2 主要化学试剂 | 第22-23页 |
| 2.1.3 试验仪器及设备 | 第23-24页 |
| 2.2 试验方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1 电化学抛光试验 | 第24-25页 |
| 2.2.2 技术路线 | 第25页 |
| 2.2.3 正交试验 | 第25页 |
| 2.2.4 单因素试验 | 第25页 |
| 2.3 性能表征 | 第25-27页 |
| 2.3.1 表面性能 | 第26页 |
| 2.3.2 显微硬度 | 第26页 |
| 2.3.3 亲疏水性能 | 第26页 |
| 2.3.4 腐蚀性能检测 | 第26-27页 |
| 第三章 Ni-Ti合金电化学抛光液研制 | 第27-41页 |
| 3.1 HCLO_4-CH_3COOH基础体系 | 第27-29页 |
| 3.2 缓蚀剂试验 | 第29-32页 |
| 3.3 粘度调节剂试验 | 第32-34页 |
| 3.4 添加剂试验 | 第34-39页 |
| 3.4.1 苯并三氮唑试验 | 第35-37页 |
| 3.4.2 葡萄糖与(1,4)丁炔二醇试验 | 第37-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 Ni-Ti合金电化学抛光工艺优化 | 第41-50页 |
| 4.1 正交试验 | 第41-42页 |
| 4.1.1 正交试验制定 | 第41页 |
| 4.1.2 抛光质量评定 | 第41页 |
| 4.1.3 正交试验结果分析 | 第41-42页 |
| 4.2 Ni-Ti合金电化学抛光影响因素分析 | 第42-49页 |
| 4.2.1 电流密度 | 第42-44页 |
| 4.2.2 电极间距 | 第44-45页 |
| 4.2.3 抛光时间 | 第45-47页 |
| 4.2.4 抛光温度 | 第47-48页 |
| 4.2.5 不同抛光工艺分析 | 第48-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 Ni-Ti合金电化学抛光性能 | 第50-62页 |
| 5.1 表面性能 | 第50-56页 |
| 5.1.1 表面粗糙度及表面形貌 | 第50-53页 |
| 5.1.2 表面成分分析 | 第53-56页 |
| 5.2 显微硬度 | 第56-57页 |
| 5.3 亲疏水性 | 第57-59页 |
| 5.4 耐腐蚀性能 | 第59-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 在读期间公开发表的论文 | 第66-67页 |
| 在读期间申请的国家发明专利 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
