Ti、Y掺杂对氧化钒薄膜结构与性能的影响
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 几种不同钒氧化物的晶体结构和特性 | 第11-17页 |
| 1.2.1 二氧化钒的晶体结构和特性 | 第11-15页 |
| 1.2.2 三氧化二钒的晶体结构和性质 | 第15-16页 |
| 1.2.3 一氧化钒的晶体结构和特性 | 第16页 |
| 1.2.4 五氧化二钒的晶体结构和特性 | 第16-17页 |
| 1.3 二氧化钒的典型应用 | 第17-20页 |
| 1.3.1 激光防护 | 第17-18页 |
| 1.3.2 光学存储 | 第18页 |
| 1.3.3 智能窗 | 第18-20页 |
| 1.4 氧化钒薄膜在非制冷红外探测器中的应用 | 第20-21页 |
| 1.4.1 非制冷红外探测器概述 | 第20-21页 |
| 1.4.2 氧化钒热敏薄膜研究 | 第21页 |
| 1.5 二氧化钒相变特性的调控 | 第21-25页 |
| 1.5.1 制备工艺对VO2相变特性的影响 | 第22页 |
| 1.5.2 金属元素掺杂对VO2相变特性的影响 | 第22-24页 |
| 1.5.3 不同元素共掺对二氧化钒相变特性的影响 | 第24页 |
| 1.5.4 纳米氧化钒材料的相变特性 | 第24-25页 |
| 1.6 选题意义及主要研究内容 | 第25-27页 |
| 1.6.1 选题意义 | 第25页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第25页 |
| 1.6.3 论文结构 | 第25-27页 |
| 第二章 掺Ti对氧化钒薄膜结构与性能的影响 | 第27-44页 |
| 2.1 薄膜制备 | 第27-31页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第27-28页 |
| 2.1.2 复合靶材 | 第28-29页 |
| 2.1.3 薄膜制备工艺 | 第29-31页 |
| 2.2 电阻温度特性 | 第31-36页 |
| 2.2.1 掺Ti对相变特性的影响 | 第31-34页 |
| 2.2.2 掺Ti对氧化钒薄膜TCR的影响 | 第34-36页 |
| 2.3 表面形貌分析 | 第36-38页 |
| 2.4 XRD分析 | 第38-40页 |
| 2.5 XPS分析 | 第40-42页 |
| 2.6 掺Ti对氧化钒薄膜相变特性的影响机理 | 第42-43页 |
| 2.7 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 无相变掺Y氧化钒薄膜结构与性能分析 | 第44-50页 |
| 3.1 薄膜制备 | 第44-45页 |
| 3.2 掺Y对薄膜的电阻率和TCR的影响 | 第45-46页 |
| 3.3 电阻温度特性曲线 | 第46-47页 |
| 3.4 电阻稳定性 | 第47-48页 |
| 3.5 SEM分析 | 第48页 |
| 3.6 XRD分析 | 第48-49页 |
| 3.7 本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 相变掺Y氧化钒薄膜结构与性能分析 | 第50-60页 |
| 4.1 薄膜制备 | 第50页 |
| 4.2 电阻温度特性 | 第50-53页 |
| 4.3 表面形貌分析 | 第53-54页 |
| 4.4 Raman分析 | 第54-57页 |
| 4.5 XRD分析 | 第57-58页 |
| 4.6 XPS分析 | 第58-59页 |
| 4.7 掺Y对氧化钒薄膜相变特性的影响机制 | 第59页 |
| 4.8 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 5.1 结论 | 第60-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第69-70页 |
