| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 一维纳米材料的性质及制备 | 第10-16页 |
| 1.1.1 纳米科技概述 | 第10-11页 |
| 1.1.2 一维纳米材料 | 第11-16页 |
| 1.1.2.1 一维纳米材料的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.1.2.2 一维金属纳米材料的电导 | 第15-16页 |
| 1.1.2.3 金属和半导体纳米线的应用 | 第16页 |
| 1.2 透明电极的应用领域及种类 | 第16-23页 |
| 1.2.1 透明电极在有机光电器件中的应用 | 第16-20页 |
| 1.2.1.1 有机光电器件概述 | 第16-18页 |
| 1.2.1.2 OLED和OPVs的结构及工作原理 | 第18-19页 |
| 1.2.1.3 ITO透明电极的发展现状 | 第19-20页 |
| 1.2.2 透明电极的种类 | 第20-23页 |
| 1.2.2.1 透明导电氧化物半导体 | 第20-22页 |
| 1.2.2.2 碳纳管米网和石墨烯 | 第22页 |
| 1.2.2.3 超薄金属薄膜 | 第22-23页 |
| 1.2.2.4 网状金属纳米线 | 第23页 |
| 1.3 本论文的选题意义及主要研究内容 | 第23-29页 |
| 1.3.1 本课题的背景及选题意义 | 第23-28页 |
| 1.3.1.1 银纳米线的研究现状 | 第23-25页 |
| 1.3.1.2 银纳米线透明电极的研究现状 | 第25-28页 |
| 1.3.2 本课题的难点及核心问题 | 第28-29页 |
| 第二章 银纳米线的合成研究 | 第29-51页 |
| 2.1 实验原理 | 第29-30页 |
| 2.1.1 AgNO3的还原反应 | 第29页 |
| 2.1.2 银纳米颗粒成核过程 | 第29-30页 |
| 2.1.3 一维纳米结构的形成 | 第30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-33页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第30-31页 |
| 2.2.2 实验前相关准备 | 第31-32页 |
| 2.2.2.1 清洗硅片 | 第31页 |
| 2.2.2.2 配制金属盐-乙二醇溶液 | 第31-32页 |
| 2.2.3 实验步骤 | 第32-33页 |
| 2.2.3.1 反应液的准备 | 第32页 |
| 2.2.3.2 银纳米线的合成反应 | 第32-33页 |
| 2.2.3.3 银纳米线的提纯 | 第33页 |
| 2.2.3.4 银纳米线的表征 | 第33页 |
| 2.3 结果与分析 | 第33-51页 |
| 2.3.1 PVP与硝酸银的摩尔比对银纳米线生长的影响 | 第33-38页 |
| 2.3.1.1 PVP与AgNO3摩尔比为 1.5:1 | 第33-34页 |
| 2.3.1.2 PVP与硝酸银摩尔比为 3:1 | 第34-35页 |
| 2.3.1.3 PVP与硝酸银摩尔比为 6:1 | 第35-36页 |
| 2.3.1.4 PVP与硝酸银摩尔比为 15:1 | 第36-38页 |
| 2.3.2 金属盐对银纳米线生长的影响 | 第38-45页 |
| 2.3.2.1 不加入NaCl | 第38-39页 |
| 2.3.2.2 NaCl浓度为 10μM | 第39-40页 |
| 2.3.2.2 NaCl浓度为 30μM | 第40-41页 |
| 2.3.2.3 NaCl浓度为 50μM | 第41-42页 |
| 2.3.2.5 FeCl3浓度为 10μM | 第42-43页 |
| 2.3.2.6 FeCl3浓度为 30μM | 第43-45页 |
| 2.3.3 银纳米线的提纯 | 第45-51页 |
| 2.3.3.1 3000rpm转速离心分离 | 第45-47页 |
| 2.3.3.2 4500rpm转速离心分离 | 第47-48页 |
| 2.3.3.3 6000rpm转速离心分离 | 第48-49页 |
| 2.3.3.4 9000rpm转速离心分离 | 第49-51页 |
| 第三章 基于银纳米线的透明电极的制备 | 第51-66页 |
| 3.1 实验原理 | 第51-52页 |
| 3.1.1 银纳米线透明电极的导电性和光透过率 | 第51页 |
| 3.1.2 旋涂 | 第51-52页 |
| 3.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第52-53页 |
| 3.2.2 实验前相关准备 | 第53页 |
| 3.2.2.1 清洗玻璃基片 | 第53页 |
| 3.2.2.2 配制浓度为 3mg/mL的银纳米线-乙醇悬浊液 | 第53页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第53-54页 |
| 3.2.3.1 旋涂 | 第53页 |
| 3.2.3.2 真空退火 | 第53页 |
| 3.2.3.3 透明电极的表征相关参数的测试 | 第53-54页 |
| 3.3 结果与分析 | 第54-66页 |
| 3.3.1 旋涂时转速对透明电极方阻和光透过率的影响 | 第54-60页 |
| 3.3.1.1 旋涂角速度为 800rpm | 第54-56页 |
| 3.3.1.2 旋涂角速度为 1500rpm | 第56-57页 |
| 3.3.1.3 旋涂角速度为 3000rpm | 第57-58页 |
| 3.3.1.4 旋涂角速度为 6000rpm | 第58-60页 |
| 3.3.2 旋涂次数对透明电极方阻和光透过率的影响 | 第60-66页 |
| 3.3.2.1 转速为 800rpm旋涂4次 | 第60-62页 |
| 3.3.2.2 转速为 3000rpm旋涂4次 | 第62-63页 |
| 3.3.2.3 转速为 6000rpm旋涂4次 | 第63-66页 |
| 第四章 结论 | 第66-69页 |
| 4.1 银纳米线的合成 | 第66-67页 |
| 4.2 基于银纳米线的透明电极的制备 | 第67-68页 |
| 4.3 研究前景展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-77页 |
