摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 铝、镁轻合金的特点和应用 | 第10页 |
1.2 铝、镁轻合金传统的表面处理技术 | 第10-12页 |
1.2.1 阳极氧化 | 第10-11页 |
1.2.2 喷涂 | 第11页 |
1.2.3 物理气相沉积 | 第11-12页 |
1.2.4 电镀 | 第12页 |
1.3 微弧氧化技术 | 第12-15页 |
1.3.1 微弧氧化简介 | 第12-13页 |
1.3.2 微弧氧化技术发展历史 | 第13页 |
1.3.3 微弧氧化基本原理 | 第13-15页 |
1.4 微弧氧化的影响因素 | 第15-17页 |
1.5 微弧氧化膜层的腐蚀评价方法 | 第17-19页 |
1.5.1 铝、镁合金微弧氧化膜层腐蚀特性 | 第17-18页 |
1.5.2 微弧氧化陶瓷层的腐蚀评价方法 | 第18-19页 |
1.6 本文的主要研究内容 | 第19-20页 |
第2章 实验设备和研究方法 | 第20-24页 |
2.1 试样选材及前处理 | 第20-21页 |
2.1.1 铝合金微弧氧化 | 第20页 |
2.1.2 镁合金微弧氧化 | 第20-21页 |
2.2 微弧氧化设备及电源模式 | 第21-22页 |
2.2.1 实验设备 | 第21-22页 |
2.2.2 电源模式 | 第22页 |
2.3 分析测试技术 | 第22-23页 |
2.3.1 火花形貌 | 第22页 |
2.3.2 表面形貌观察和组成分析 | 第22-23页 |
2.3.3 断面形貌观察 | 第23页 |
2.3.4 物相鉴定 | 第23页 |
2.3.5 硬度测定 | 第23页 |
2.3.6 耐蚀性能检测 | 第23页 |
2.4 本章小结 | 第23-24页 |
第3章 氧化镁添加剂对 6061 铝合金微弧氧化膜层的影响 | 第24-42页 |
3.1 氧化镁添加剂对微弧氧化电压及火花的影响 | 第24-26页 |
3.1.1 氧化镁添加剂对微弧氧化电压的影响 | 第24-25页 |
3.1.2 氧化镁添加剂对微弧氧化火花的影响 | 第25-26页 |
3.2 氧化镁添加剂对微弧氧化陶瓷层表面形貌及成分的影响 | 第26-30页 |
3.2.1 氧化镁添加剂对短期微弧氧化陶瓷层表面形貌的影响 | 第26-27页 |
3.2.2 氧化镁添加剂对短期微弧氧化陶瓷层表面成分的影响 | 第27-29页 |
3.2.3 氧化镁添加剂对长时间微弧氧化陶瓷层表面形貌的影响 | 第29-30页 |
3.2.4 氧化镁添加剂对长时间微弧氧化陶瓷层表面元素的影响 | 第30页 |
3.3 氧化镁添加剂对微弧氧化陶瓷层断面形貌及成分的影响 | 第30-34页 |
3.3.1 微弧氧化膜层光学断面 | 第30-31页 |
3.3.2 膜层厚度随添加剂含量的变化 | 第31-32页 |
3.3.3 陶瓷层断面 SEM 形貌 | 第32-33页 |
3.3.4 氧化镁添加剂对断面元素含量的影响 | 第33-34页 |
3.4 氧化镁添加剂对微弧氧化膜层相组成的影响 | 第34-35页 |
3.5 氧化镁添加剂对微弧氧化膜层硬度的影响 | 第35-36页 |
3.6 氧化镁添加剂对微弧氧化膜层耐蚀性能的影响 | 第36-40页 |
3.6.1 极化曲线 | 第36-38页 |
3.6.2 交流阻抗 | 第38-40页 |
3.7 讨论 | 第40-41页 |
3.8 本章小结 | 第41-42页 |
第4章 六偏磷酸钠对 AZ31 镁合金微弧氧化的影响机理 | 第42-59页 |
4.1 六偏磷酸钠对电参数的影响 | 第42-44页 |
4.1.1 恒流阶段电压的变化 | 第42-43页 |
4.1.2 恒压阶段电流的变化 | 第43-44页 |
4.2 六偏磷酸钠对火花特征的影响 | 第44-45页 |
4.3 六偏磷酸钠对表面形貌及成分的影响 | 第45-47页 |
4.3.1 不同六偏磷酸钠浓度下制备陶瓷层的表面形貌 | 第45-46页 |
4.3.2 不同六偏磷酸钠浓度下制备陶瓷层的表面成分 | 第46-47页 |
4.4 六偏磷酸钠对断面形貌及成分的影响 | 第47-49页 |
4.4.1 不同六偏磷酸钠浓度下制备陶瓷层的断面形貌 | 第47-48页 |
4.4.2 不同六偏磷酸钠浓度下制备陶瓷层的断面成分 | 第48-49页 |
4.5 六偏磷酸钠对微弧氧化陶瓷层相组成的影响 | 第49-50页 |
4.6 六偏磷酸钠对微弧氧化陶瓷层耐蚀性能的影响 | 第50-53页 |
4.6.1 极化曲线 | 第50-51页 |
4.6.2 交流阻抗 | 第51-53页 |
4.7 探讨六偏磷酸钠对微弧氧化过程的作用机理 | 第53-56页 |
4.7.1 短时间膜层高频阻抗谱 | 第53-55页 |
4.7.2 短时间膜层表面形貌 | 第55页 |
4.7.3 短时间膜层表面成分 | 第55-56页 |
4.8 讨论 | 第56-57页 |
4.9 本章小结 | 第57-59页 |
结论 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
作者简介 | 第68页 |