新型还原剂制备石墨烯
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第1章 引言 | 第8-19页 |
| 1.1 石墨烯的结构 | 第8-9页 |
| 1.2 石墨烯的特殊性能 | 第9-11页 |
| 1.2.1 电学特性 | 第9-10页 |
| 1.2.2 力学性质 | 第10页 |
| 1.2.3 热学特性 | 第10页 |
| 1.2.4 化学特性 | 第10-11页 |
| 1.3 石墨烯的应用领域 | 第11-12页 |
| 1.3.1 光电子学领域 | 第11页 |
| 1.3.2 透明导电电极 | 第11-12页 |
| 1.3.3 单分子探测 | 第12页 |
| 1.3.4 其他应用 | 第12页 |
| 1.4 石墨烯的市场前景 | 第12-13页 |
| 1.5 石墨烯的制备方法 | 第13-17页 |
| 1.5.1 微机械剥离法 | 第13页 |
| 1.5.2 化学还原法 | 第13-14页 |
| 1.5.3 化学气相沉积法 | 第14-15页 |
| 1.5.4 其他制备方法 | 第15-17页 |
| 1.6 本论文的选题背景、研究内容和意义 | 第17-19页 |
| 第2章 新型还原剂制备石墨烯 | 第19-25页 |
| 2.1 理论背景 | 第19-21页 |
| 2.2 新型还原剂介绍 | 第21-22页 |
| 2.2.1 二氧化硫脲碱液 | 第21页 |
| 2.2.2 碳酰肼碱液 | 第21-22页 |
| 2.3 实验部分 | 第22-23页 |
| 2.3.1 氧化石墨的制备 | 第22页 |
| 2.3.2 二氧化硫脲碱液还原 GO 制备石墨烯 | 第22-23页 |
| 2.3.3 碳酰肼碱液还原 GO 制备石墨烯 | 第23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-25页 |
| 第3章 新型还原剂制备的石墨烯的表征 | 第25-40页 |
| 3.1 理论背景 | 第25-30页 |
| 3.2 二氧化硫脲碱液制备的石墨烯表征 | 第30-35页 |
| 3.2.1 实验现象 | 第30页 |
| 3.2.2 扫描电镜图分析 | 第30-32页 |
| 3.2.3 X-射线衍射分析 | 第32-34页 |
| 3.2.4 导电性分析 | 第34页 |
| 3.2.5 拉曼光谱分析 | 第34-35页 |
| 3.3 碳酰肼碱液制备的石墨烯表征 | 第35-39页 |
| 3.3.1 实验现象 | 第36页 |
| 3.3.2 扫描电镜图分析 | 第36-37页 |
| 3.3.3 X-射线衍射分析 | 第37页 |
| 3.3.4 拉曼光谱分析 | 第37-38页 |
| 3.3.5 导电性分析 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 新型还原剂还原氧化石墨机理的初步探讨 | 第40-43页 |
| 4.1 理论背景 | 第40-41页 |
| 4.2 机理推测 | 第41-42页 |
| 4.2.1 二氧化硫脲碱液还原机理 | 第41页 |
| 4.2.2 碳酰肼碱液还原机理 | 第41-42页 |
| 4.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 CVD 法制备石墨烯及结果比较 | 第43-50页 |
| 5.1 理论背景 | 第43-46页 |
| 5.2 实验部分 | 第46-47页 |
| 5.2.1 石墨烯薄膜的制备过程 | 第46-47页 |
| 5.2.2 石墨烯薄膜的转移过程 | 第47页 |
| 5.3 结果表征与分析 | 第47-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第6章 结论与展望 | 第50-52页 |
| 6.1 结论 | 第50-51页 |
| 6.2 展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第58页 |
