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Ge/InxGa1-xAs异质结发光特性研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章 绪论第7-13页
    1.1 引言第7-8页
    1.2 电致发光概述第8-10页
    1.3 电致发光国内外研究进展第10-12页
        1.3.1 有机电致发光进展研究第10页
        1.3.2 无机注入式电致发光进展研究第10-12页
    1.4 论文主要工作与章节安排第12-13页
第二章 发光二极管原理及相关理论第13-21页
    2.1 发光二极管的发光原理第13-15页
    2.2 发光二极管的光学参数第15-19页
        2.2.1 发光二极管的光谱分布第15-16页
        2.2.2 辐射通量第16页
        2.2.3 光通量第16-17页
        2.2.4 发光强度第17页
        2.2.5 亮度第17页
        2.2.6 发光效率第17页
        2.2.7 量子效率第17-19页
    2.3 衬底材料的选择第19-20页
    2.4 本章小结第20-21页
第三章 材料物理特性及应变相关理论第21-33页
    3.1 In_xGa_(1-x)As 半导体材料特性第21-23页
    3.2 Ge 半导体材料特性第23-26页
        3.2.1 Ge 晶格结构第23-24页
        3.2.2 Ge 能带结构第24-26页
    3.3 应变相关理论第26-29页
    3.4 应变 Ge 的能带变化理论第29-32页
    3.5 本章小结第32-33页
第四章 Ge/In_(0.25)Ga_(0.75)As 异质结发光特性研究第33-53页
    4.1 仿真软件介绍第33-34页
    4.2 ATLAS 中的物理模型与物理方程第34-41页
        4.2.1 基本物理方程第34-38页
        4.2.2 基本物理模型第38-41页
    4.3 Ge/In_(0.25)Ga_(0.75)As 异质结量子阱发光特性研究第41-51页
        4.3.1 Atlas 软件仿真—器件结构第41-43页
        4.3.2 ATLAS 软件仿真—仿真设置第43-47页
        4.3.3 ATLAS 软件仿真—仿真结果第47-51页
    4.4 本章小结第51-53页
第五章 In 组分对器件发光特性影响研究第53-63页
    5.1 In 组分对器件发光特性影响理论研究第53-55页
    5.2 仿真结果第55-60页
        5.2.1 载流子辐射复合率与 In 组分的关系第55-58页
        5.2.2 发光强度与 In 组分的关系第58-60页
    5.3 本章小结第60-63页
第六章 总结与展望第63-65页
致谢第65-67页
参考文献第67-72页

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