| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 生物医用金属材料 | 第9页 |
| 1.2 可降解镁及镁合金植入材料 | 第9-12页 |
| 1.2.1 镁及镁合金性能特点 | 第9-10页 |
| 1.2.2 镁及镁合金医学应用存在的问题 | 第10页 |
| 1.2.3 提高镁及镁合金耐腐蚀性的方法 | 第10-12页 |
| 1.2.3.1 生物活性陶瓷涂层 | 第10-11页 |
| 1.2.3.2 可降解高分子涂层 | 第11页 |
| 1.2.3.3 阳极氧化膜 | 第11-12页 |
| 1.3 微弧氧化技术简介 | 第12-14页 |
| 1.3.1 微弧氧化基本原理 | 第12-13页 |
| 1.3.2 微弧氧化技术特点 | 第13-14页 |
| 1.4 生物医用镁合金表面微弧氧化技术的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4.1 电解液优化 | 第14-15页 |
| 1.4.2 电参数优化 | 第15-16页 |
| 1.4.3 微弧氧化复合涂层 | 第16页 |
| 1.5 本课题的研究目的和主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 微弧氧化工艺探究 | 第18-49页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 微弧氧化膜层的制备 | 第18-21页 |
| 2.2.1 试验材料 | 第18-19页 |
| 2.2.2 预处理 | 第19页 |
| 2.2.3 微弧氧化处理 | 第19-20页 |
| 2.2.4 微弧氧化后处理 | 第20页 |
| 2.2.5 电参数 | 第20-21页 |
| 2.2.6 研究方案 | 第21页 |
| 2.3 表征与测试方法 | 第21-23页 |
| 2.3.1 XRD分析 | 第21页 |
| 2.3.2 SEM分析 | 第21-22页 |
| 2.3.3 EDS分析 | 第22页 |
| 2.3.4 点滴实验 | 第22页 |
| 2.3.5 电化学测试 | 第22-23页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第23-47页 |
| 2.4.1 正向电压对微弧氧化膜层微观组织及耐蚀性能的影响 | 第23-30页 |
| 2.4.1.1 正向电压对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第23-24页 |
| 2.4.1.2 正向电压对微弧氧化膜层截面形貌的影响 | 第24-26页 |
| 2.4.1.3 正向电压对微弧氧化膜层物相的影响 | 第26-27页 |
| 2.4.1.4 不同正向电压下微弧氧化膜层的点滴实验 | 第27-28页 |
| 2.4.1.5 不同正向电压下微弧氧化膜层电化学性能分析 | 第28-30页 |
| 2.4.2 脉冲频率对微弧氧化膜层微观组织及耐蚀性能的影响 | 第30-37页 |
| 2.4.2.1 脉冲频率对微弧氧化膜层表面形貌影响 | 第30-32页 |
| 2.4.2.2 脉冲频率对微弧氧化膜层截面形貌的影响 | 第32-34页 |
| 2.4.2.3 脉冲频率对微弧氧化膜层物相的影响 | 第34-35页 |
| 2.4.2.4 不同脉冲频率下微弧氧化膜层的点滴实验 | 第35页 |
| 2.4.2.5 不同脉冲频率下微弧氧化膜层电化学性能分析 | 第35-37页 |
| 2.4.3 正占空比对微弧氧化膜层微观组织及耐蚀性能的影响 | 第37-44页 |
| 2.4.3.1 正占空比对微弧氧化膜层表面形貌影响 | 第37-38页 |
| 2.4.3.2 正占空比对微弧氧化膜层截面形貌的影响 | 第38-40页 |
| 2.4.3.3 正占空比对微弧氧化膜层物相的影响 | 第40-41页 |
| 2.4.3.4 不同正占空比下微弧氧化膜层的点滴实验 | 第41-42页 |
| 2.4.3.5 不同正占空比下微弧氧化膜层电化学性能分析 | 第42-44页 |
| 2.4.4 微弧氧化膜层的形成机理 | 第44-47页 |
| 2.4.4.1 微弧氧化膜层的形成过程 | 第44-46页 |
| 2.4.4.2 微弧氧化膜层击穿放电模型 | 第46-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第三章 微弧氧化封孔工艺初步探究 | 第49-61页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 涂层的制备 | 第49-50页 |
| 3.2.1 实验药品 | 第49页 |
| 3.2.2 微弧氧化处理 | 第49-50页 |
| 3.2.3 微弧氧化封孔工艺 | 第50页 |
| 3.3 表征与测试方法 | 第50页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第50-60页 |
| 3.4.1 涂层物相分析 | 第50-51页 |
| 3.4.2 涂层表面形貌分析 | 第51-53页 |
| 3.4.3 涂层截面形貌分析 | 第53-55页 |
| 3.4.4 点滴实验 | 第55页 |
| 3.4.5 涂层电化学性能分析 | 第55-57页 |
| 3.4.6 氟羟基磷灰石涂层的形成过程及机理 | 第57-60页 |
| 3.4.6.1 氟羟基磷灰石涂层的形成机理 | 第57-58页 |
| 3.4.6.2 氟羟基磷灰石涂层的形成过程 | 第58-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 微弧氧化及FHA封孔涂层体外降解行为研究 | 第61-78页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 实验材料及方法 | 第61-62页 |
| 4.2.1 微弧氧化处理 | 第61页 |
| 4.2.2 微弧氧化封孔处理 | 第61-62页 |
| 4.2.3 体外浸泡实验 | 第62页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第62-77页 |
| 4.3.1 电化学性能分析 | 第62-66页 |
| 4.3.2 pH及失重 | 第66-67页 |
| 4.3.3 宏观形貌 | 第67-69页 |
| 4.3.4 微观形貌 | 第69-75页 |
| 4.3.5 MAO和MAO30降解机理研究 | 第75-77页 |
| 4.4 本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 全文总结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
