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玻璃制备及其电子辐照效应的光学吸收谱研究

中文摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-23页
    1.1 高放废物的产生及其特点第10-13页
    1.2 高放废物的处置方法第13-15页
    1.3 玻璃简介第15-16页
        1.3.1 玻璃的类型第15页
        1.3.2 玻璃的微观结构第15-16页
    1.4 玻璃的吸收光谱特性及常见缺陷第16-19页
        1.4.1 玻璃的吸收光谱特性第16-18页
        1.4.2 玻璃中常见的几种缺陷第18-19页
    1.5 国际研究现状第19-21页
    1.6 本工作意义及研究内容第21-23页
        1.6.1 本工作的意义第21-22页
        1.6.2 本工作的研究内容第22-23页
第二章 玻璃样品的实验室制备第23-29页
    2.1 炼制玻璃的工艺流程第23-24页
    2.2 升温和降温速率的工艺控制以及退火后的注意事项第24-27页
        2.2.1 升温速率第25-26页
        2.2.2 降温速率第26页
        2.2.3 退火后的注意事项第26-27页
    2.3 炼制器皿的选择第27-29页
第三章 电子辐照实验及测试技术第29-33页
    3.1 样品信息第29-30页
    3.2 电子辐照实验第30-32页
    3.3 光学吸收谱测试方法第32-33页
第四章 测试结果与讨论第33-52页
    4.1 未辐照样品的光学吸收谱第33-36页
        4.1.1 三种未辐照玻璃的光学吸收谱第33页
        4.1.2 无需拟合未辐照SiO_2玻璃样品的光学吸收谱第33-34页
        4.1.3 双峰拟合未辐照NBS玻璃样品的光学吸收谱第34页
        4.1.4 双峰拟合未辐照HBS玻璃样品的光学吸收谱第34-35页
        4.1.5 分析小结第35-36页
    4.2 电子辐照样品的光学吸收谱第36-39页
        4.2.1 电子辐照SiO_2玻璃样品的光学吸收谱第36页
        4.2.2 电子辐照NBS玻璃样品的光学吸收谱第36-37页
        4.2.3 电子辐照HBS玻璃样品的光学吸收谱第37-38页
        4.2.4 小结第38-39页
    4.3 电子辐照样品的光学带隙第39-43页
        4.3.1 电子辐照SiO_2玻璃样品的光学带隙第39-40页
        4.3.2 电子辐照NBS玻璃样品的光学带隙第40-42页
        4.3.3 电子辐照HBS玻璃样品的光学带隙第42-43页
        4.3.4 小结第43页
    4.4 电子辐照诱导产生的缺陷结构第43-52页
        4.4.1 定义做差光学吸收谱第43-44页
        4.4.2 电子辐照SiO_2玻璃样品光学吸收谱的分析第44-45页
        4.4.3 电子辐照NBS玻璃样品光学吸收谱的分析第45-47页
        4.4.4 电子辐照HBS玻璃样品光学吸收谱的分析第47-49页
        4.4.5 电子辐照诱导产生的缺陷结构的类型及产生机理第49-52页
第五章 总结与展望第52-54页
    5.1 本论文主要结论第52-53页
    5.2 未来工作展望第53-54页
参考文献第54-56页
附录 高斯拟合做差光学吸收谱第56-60页
    附录1 高斯拟合SiO_2玻璃样品做差光学吸收谱第56-57页
    附录2 高斯拟合NBS玻璃样品做差光学吸收谱第57-58页
    附录3 高斯拟合HBS玻璃样品做差光学吸收谱第58-60页
致谢第60页

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