| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 VCSEL 概述 | 第10-12页 |
| 1.1.1 VCSEL 发展历程 | 第10-11页 |
| 1.1.2 VCSEL 应用领域 | 第11-12页 |
| 1.1.3 VCSEL 优势 | 第12页 |
| 1.2 单模偏振稳定 VCSEL 研究现状 | 第12-19页 |
| 1.2.1 单模偏振稳定 VCSEL 研究意义 | 第12-14页 |
| 1.2.2 单模偏振稳定 VCSEL 研究现状 | 第14-19页 |
| 1.3 本论文的研究工作 | 第19-20页 |
| 第2章 VCSEL 基本理论 | 第20-36页 |
| 2.1 VCSEL 基本结构和工作原理 | 第20-22页 |
| 2.1.1 VCSEL 基本结构 | 第20-21页 |
| 2.1.2 工作原理 | 第21-22页 |
| 2.2 DBR 反射镜 | 第22-24页 |
| 2.3 光增益 | 第24-25页 |
| 2.4 特性参数 | 第25-27页 |
| 2.5 模式特性 | 第27-32页 |
| 2.5.1 纵模特性 | 第27-28页 |
| 2.5.2 横模特性 | 第28-32页 |
| 2.6 偏振特性 | 第32-34页 |
| 2.7 本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 单模偏振稳定 VCSEL 设计与优化 | 第36-48页 |
| 3.1 等效折射率模型 | 第36-38页 |
| 3.2 980nmVCSEL 器件 b-V 关系 | 第38-39页 |
| 3.3 氧化孔径与横模间距的关系 | 第39-41页 |
| 3.4 菱形孔径偏振控制原理分析 | 第41-44页 |
| 3.5 多模速率方程模拟 | 第44-46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 980nm 单模偏振稳定 VCSEL 器件制备 | 第48-54页 |
| 4.1 工艺流程 | 第48-49页 |
| 4.2 器件制备关键工艺 | 第49-53页 |
| 4.2.1 湿法腐蚀 | 第49-50页 |
| 4.2.2 湿氮氧化 | 第50-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 测试结果与分析 | 第54-64页 |
| 5.1 不同孔径器件 P-I-V 特性对比 | 第54-55页 |
| 5.2 小孔径器件模式特性测试与分析 | 第55-57页 |
| 5.3 偏振特性测试 | 第57-59页 |
| 5.4 孔径形状对偏振特性的影响 | 第59-60页 |
| 5.5 模式动态变化分析 | 第60-62页 |
| 5.6 本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |