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五轴并联抛光机器人抛光力建模与控制

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第1章 绪论第8-16页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第8-9页
    1.2 国内外相关技术的发展现状第9-14页
        1.2.1 国内外自由曲面抛光方法的研究现状第9-11页
        1.2.2 力控制方法研究现状第11-14页
    1.3 课题来源及主要研究内容第14-16页
        1.3.1 课题来源第14页
        1.3.2 课题主要研究内容第14-16页
第2章 抛光工艺第16-31页
    2.1 引言第16页
    2.2 影响抛光的因素第16-18页
    2.3 抛光效果评价指标第18-20页
    2.4 抛光假设条件及去除量的影响因素第20-22页
    2.5 直线轨迹抛光去除函数建模和轨迹优化第22-27页
        2.5.1 直线轨迹抛光去除函数建模第22-25页
        2.5.2 直线轨迹优化第25-27页
    2.6 阿基米德螺线轨迹抛光去除函数建模及和轨迹优化第27-30页
        2.6.1 阿基米德螺线轨迹去除函数建模第27-29页
        2.6.2 阿基米德螺线的优化第29-30页
    2.7 本章小结第30-31页
第3章 抛光伺服平台系统的建模第31-42页
    3.1 引言第31页
    3.2 抛光伺服平台系统简介第31-32页
    3.3 抛光伺服平台控制系统动力学分析第32-33页
    3.4 永磁同步直线电机基本结构及工作原理第33-35页
        3.4.1 永磁同步直线电机的基本结构第33页
        3.4.2 永磁同步直线电机的工作原理第33-35页
    3.5 交流永磁同步直线电机的矢量控制原理第35-38页
        3.5.1 电流矢量控制坐标变换第35-36页
        3.5.2 直线电机电磁推力推导第36-38页
    3.6 抛光伺服平台的永磁同步直线电机动力学建模第38-41页
    3.7 本章小结第41-42页
第4章 抛光伺服平台电流环和速度环控制策略第42-51页
    4.1 引言第42页
    4.2 直线电机三闭环伺服系统的控制策略第42-43页
    4.3 抛光伺服平台的直线电机的电流环的建模与仿真第43-47页
    4.4 抛光伺服平台速度环的建模与仿真第47-50页
    4.5 本章小结第50-51页
第5章 抛光伺服平台力位混合控制策略第51-63页
    5.1 引言第51页
    5.2 抛光伺服平台力环、位置环设计第51-52页
    5.3 基于 PID 控制器的力/位置混合控制第52-58页
    5.4 基于专家 PID 控制器的力/位置混合控制第58-62页
    5.5 本章小结第62-63页
结论第63-64页
参考文献第64-69页
致谢第69页

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