| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| ABSTRACT | 第9页 |
| 第一章 文献综述 | 第14-35页 |
| 1.1 阴离子识别的研究背景及意义 | 第14-15页 |
| 1.2 二茂铁基化合物及其在阴离子识别研究中的应用 | 第15-20页 |
| 1.2.1 二茂铁基化合物的光电性能 | 第16-17页 |
| 1.2.2 二茂铁基化合物在阴离子识别研究中的应用 | 第17-20页 |
| 1.2.2.1 二茂铁基小分子化合物 | 第17-19页 |
| 1.2.2.2 二茂铁基树枝状分子和自组装胶粒 | 第19-20页 |
| 1.3 偶氮苯基化合物及其在阴离子识别研究中的应用 | 第20-25页 |
| 1.3.1 偶氮苯基光致异构化机理 | 第21-23页 |
| 1.3.2 偶氮苯基化合物在离子识别中的应用 | 第23-25页 |
| 1.3.2.1 作为信号传输基团的应用 | 第23-24页 |
| 1.3.2.2 光响应行为的应用 | 第24-25页 |
| 1.4 二茂铁基偶氮苯化合物及其应用 | 第25-29页 |
| 1.4.1 二茂铁基偶氮苯化合物在光信息储存方面的应用 | 第25-27页 |
| 1.4.2 二茂铁基偶氮苯化合物作为传感分子的应用 | 第27-29页 |
| 1.4.3 二茂铁基偶氮苯化合物在分子器件设计方面的应用 | 第29页 |
| 1.5 阴离子识别检测方法 | 第29-32页 |
| 1.5.1 电化学方法 | 第30页 |
| 1.5.2 紫外-可见光谱及荧光光谱 | 第30-31页 |
| 1.5.3 核磁共振(~1HNMR)谱法 | 第31-32页 |
| 1.5.4 其他方法 | 第32页 |
| 1.6 影响阴离子识别的因素 | 第32-34页 |
| 1.6.1 影响二茂铁基化合物电化学行为的因素 | 第32-33页 |
| 1.6.2 影响偶氮苯基光致异构化行为的因素 | 第33页 |
| 1.6.3 影响阴离子结合的因素 | 第33-34页 |
| 1.7 课题的提出 | 第34-35页 |
| 第二章 含羟基偶氮苯基席夫碱化合物的合成、表征与应用研究 | 第35-51页 |
| 2.1 实验部分 | 第36-38页 |
| 2.1.1 主要试剂及来源 | 第36-37页 |
| 2.1.2 试剂处理 | 第37页 |
| 2.1.3 测试仪器及方法 | 第37页 |
| 2.1.4 紫外-可见光谱法阴离子识别检测方法 | 第37页 |
| 2.1.5 含羟基偶氮苯基席夫碱化合物Azo-1的合成 | 第37页 |
| 2.1.6 含羟基偶氮苯基席夫碱化合物Azo-2的合成 | 第37-38页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第38-50页 |
| 2.2.1 含羟基偶氮苯基席夫碱化合物Azo-1的合成与表征 | 第38-39页 |
| 2.2.2 含羟基偶氮苯基席夫碱化合物Azo-2的合成与表征 | 第39-40页 |
| 2.2.3 含羟基偶氮苯基席夫碱化合物阴离子识别行为研究 | 第40-47页 |
| 2.2.4 Azo-1和Azo-2与F的结合机理研究 | 第47-50页 |
| 2.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 二茂铁基席夫碱化合物的合成、表征与应用研究 | 第51-65页 |
| 3.1 实验部分 | 第52-53页 |
| 3.1.1 主要试剂及来源 | 第52页 |
| 3.1.2 试剂处理 | 第52页 |
| 3.1.3 测试仪器及方法 | 第52页 |
| 3.1.4 溶液电化学测试方法 | 第52页 |
| 3.1.5 循环伏安法阴离子识别测试方法 | 第52-53页 |
| 3.1.6 含二茂铁基团的席夫碱化合物Fc-1的合成 | 第53页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第53-63页 |
| 3.2.1 含二茂铁基团的席夫碱化合物Fc-1的合成与表征 | 第53-54页 |
| 3.2.2 含二茂铁基团的席夫碱化合物Fc-1的电化学行为 | 第54-59页 |
| 3.2.2.1 不同溶剂类型对Fc-1电化学行为的影响 | 第55-56页 |
| 3.2.2.2 不同扫描速率对Fc-1电化学行为的影响 | 第56-57页 |
| 3.2.2.3 电解质浓度对Fc-1电化学行为的影响 | 第57-58页 |
| 3.2.2.4 二茂铁单元浓度对Fc-1溶液电化学行为的影响 | 第58-59页 |
| 3.2.3 含二茂铁基团的席夫碱化合物Fc-1的阴离子识别研究 | 第59-63页 |
| 3.2.3.1 电化学方法 | 第59-61页 |
| 3.2.3.2 ~1H NMR方法 | 第61-63页 |
| 3.3 本章小结 | 第63-65页 |
| 第四章 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物的合成、表征及应用研究 | 第65-78页 |
| 4.1 实验部分 | 第66-67页 |
| 4.1.1 主要试剂及来源 | 第66页 |
| 4.1.2 试剂处理 | 第66页 |
| 4.1.3 测试仪器及方法 | 第66页 |
| 4.1.4 溶液电化学测试方法 | 第66页 |
| 4.1.5 紫外-可见光谱法阴离子识别测试方法 | 第66-67页 |
| 4.1.6 电化学阴离子识别测试方法 | 第67页 |
| 4.1.7 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物FcAzo-1的合成 | 第67页 |
| 4.1.8 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物FcAzo-2的合成 | 第67页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第67-76页 |
| 4.2.1 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物FcAzo-1的合成与表征 | 第67-69页 |
| 4.2.2 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物FcAzo-2的合成与表征 | 第69-70页 |
| 4.2.3 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物光致顺反异构行为研究 | 第70-72页 |
| 4.2.4 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物电化学行为研究 | 第72页 |
| 4.2.5 新型二茂铁基偶氮苯席夫碱化合物阴离子识别行为研究 | 第72-76页 |
| 4.2.5.1 紫外-可见光谱法 | 第72-75页 |
| 4.2.5.2 电化学方法 | 第75-76页 |
| 4.3 本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 结论 | 第78-81页 |
| 参考文献 | 第81-90页 |
| 作者简历及在学习期间取得的科研成果 | 第90页 |
