| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 电磁污染概述 | 第9-12页 |
| 1.2.1 电磁波的起源及电磁污染的主要来源和分类 | 第9-10页 |
| 1.2.2 电磁波的危害 | 第10-11页 |
| 1.2.3 电磁防护材料研究的重要意义 | 第11-12页 |
| 1.3 电磁屏蔽的类型及机理 | 第12-16页 |
| 1.3.1 静电屏蔽（内电场和外电场的屏蔽） | 第12-13页 |
| 1.3.2 磁场屏蔽 | 第13页 |
| 1.3.3 电磁屏蔽 | 第13页 |
| 1.3.4 电磁屏蔽机理 | 第13-15页 |
| 1.3.5 电磁波二次污染和阻抗匹配原理 | 第15-16页 |
| 1.4 电磁屏蔽材料的发展现状 | 第16-18页 |
| 1.4.1 金属及金属合金类屏蔽材料 | 第16页 |
| 1.4.2 表面涂覆类屏蔽材料 | 第16-17页 |
| 1.4.3 复合材料类电磁屏蔽材料 | 第17-18页 |
| 1.5 水热反应和CVD法概述及其在屏蔽材料中的应用 | 第18-19页 |
| 1.5.1 水热反应概述及应用 | 第18页 |
| 1.5.2 化学气相沉积法的概述及应用 | 第18-19页 |
| 1.6 课题研究的内容、背景、意义和创新点 | 第19-21页 |
| 1.6.1 课题研究的背景和意义 | 第19-20页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第20页 |
| 1.6.3 本文的创新点 | 第20-21页 |
| 第2章 铁镍合金石墨片表面生长针状四氧化三铁的制备及其吸波性能的研究 | 第21-46页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 实验材料与仪器 | 第22-23页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第22页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.3 实验方案 | 第23-26页 |
| 2.3.1 制备Fe_3O_4的可行性探索 | 第23页 |
| 2.3.2 Fe-Ni-G表面制备针状Fe_3O_4 | 第23-25页 |
| 2.3.3 Fe-Ni-G的前处理工艺 | 第25页 |
| 2.3.4 改性填料树脂基复合材料的制备 | 第25-26页 |
| 2.4 材料表征与测试方法 | 第26-28页 |
| 2.4.1 表面形貌分析 | 第26页 |
| 2.4.2 X射线衍射（XRD）分析 | 第26页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱（XPS）测试 | 第26-27页 |
| 2.4.4 振动样品磁强计（VSM）磁性分析 | 第27页 |
| 2.4.5 吸波性能测试 | 第27页 |
| 2.4.6 电磁屏蔽性能及吸收/反射比测试 | 第27-28页 |
| 2.5 实验结果与分析 | 第28-44页 |
| 2.5.1 两种制备Fe_3O_4方法的对比 | 第28-29页 |
| 2.5.2 不同铁含量样品的表面形貌 | 第29-31页 |
| 2.5.3 pH值对Fe_3O_4形貌的影响 | 第31-33页 |
| 2.5.4 前处理工艺对Fe_3O_4形态的影响 | 第33-35页 |
| 2.5.5 不同还原条件下制备方法对比 | 第35-37页 |
| 2.5.6 针状Fe_3O_4的生长机理 | 第37页 |
| 2.5.7 产物磁性能分析 | 第37-38页 |
| 2.5.8 电磁参数测试和吸波性能分析 | 第38-41页 |
| 2.5.9 低频段电磁屏蔽性能测试 | 第41-42页 |
| 2.5.10 高频段吸波/反射比测试 | 第42-44页 |
| 2.6 本章小结 | 第44-46页 |
| 第3章 镀镍碳纤维表面生长碳纳米相作为屏蔽填料的探索 | 第46-53页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 实验 | 第46-48页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第46-47页 |
| 3.2.2 实验设备及仪器 | 第47页 |
| 3.2.3 实验方案 | 第47-48页 |
| 3.3 测试方法 | 第48页 |
| 3.3.1 表面形貌分析 | 第48页 |
| 3.3.2 热重分析 | 第48页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第48-52页 |
| 3.4.1 热重分析图 | 第48-49页 |
| 3.4.2 氧化温度对纤维表面的影响 | 第49-51页 |
| 3.4.3 催化剂外加法表面制备碳纳米相 | 第51-52页 |
| 3.4.4 镀镍碳纤维表面制备碳纳米相面临的困难 | 第52页 |
| 3.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 表面电阻对电磁防护材料屏蔽性能的影响 | 第53-65页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 孔隙对屏蔽效能的影响及计算 | 第53-56页 |
| 4.2.1 缝隙对电磁屏蔽效能的影响及计算 | 第53-54页 |
| 4.2.2 孔洞对电磁屏蔽效能的影响及计算 | 第54-56页 |
| 4.2.3 通常孔隙的处理 | 第56页 |
| 4.3 实验 | 第56-58页 |
| 4.3.1 实验材料和设备 | 第57页 |
| 4.3.2 实验方案 | 第57-58页 |
| 4.4 测试方法 | 第58-60页 |
| 4.4.1 光学显微镜分析 | 第58页 |
| 4.4.2 电阻测试分析 | 第58-59页 |
| 4.4.3 电磁屏蔽性能测试 | 第59-60页 |
| 4.5 实验结果与分析 | 第60-64页 |
| 4.5.1 表面形貌图 | 第60-61页 |
| 4.5.2 表面导电性能 | 第61-62页 |
| 4.5.3 电磁屏蔽性能 | 第62-63页 |
| 4.5.4 原理分析 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 全文总结 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
