| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 选题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 太阳能光谱选择性吸收涂层的基本概念及原理 | 第10-11页 |
| 1.3 太阳能光谱选择性吸收涂层的分类及制备方法 | 第11-15页 |
| 1.4 太阳能光谱选择性吸收涂层的研究进展 | 第15-19页 |
| 1.5 太阳能吸收涂层的主要理论 | 第19-21页 |
| 1.5.1 多层渐变选择性吸收膜系模型的建立 | 第19页 |
| 1.5.2 电介质-金属的复合理论—等效媒质理论 | 第19页 |
| 1.5.3 单层薄膜光学常数的确定 | 第19-20页 |
| 1.5.4 减反射膜的设计 | 第20页 |
| 1.5.5 光谱选择性吸收涂层吸收发射率计算 | 第20-21页 |
| 1.6 本课题研究的内容及目标 | 第21-22页 |
| 2 实验装置和实验方法 | 第22-32页 |
| 2.1 光谱选择性吸收涂层制备方法 | 第22-25页 |
| 2.1.1 磁控溅射设备 | 第22-23页 |
| 2.1.2 基底材料及预处理 | 第23-24页 |
| 2.1.3 吸收涂层材料的选择 | 第24-25页 |
| 2.2 光谱选择性吸收涂层表征方法 | 第25-32页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜SEM | 第25-26页 |
| 2.2.2 原子力显微镜AFM | 第26页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜TEM | 第26页 |
| 2.2.4 X射线衍射分析XRD | 第26-27页 |
| 2.2.5 拉曼光谱Raman | 第27-29页 |
| 2.2.6 UV-Vis-NIR分光光度计 | 第29页 |
| 2.2.7 红外光谱仪 | 第29-31页 |
| 2.2.8 椭圆偏振光谱仪SE | 第31页 |
| 2.2.9 真空管式高温烧结炉 | 第31-32页 |
| 3 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3的制备 | 第32-39页 |
| 3.1 SS/Mo层的制备及优化 | 第32-35页 |
| 3.1.1 不同厚度SS/Mo层SEM和AFM研究 | 第32-34页 |
| 3.1.2 不同厚度SS/Mo层XRD与光谱选择性研究 | 第34-35页 |
| 3.2 完整光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3的制备 | 第35-39页 |
| 3.2.1 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3表面与断面SEM表征 | 第36页 |
| 3.2.2 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3的XRD、HRTEM表征 | 第36-37页 |
| 3.2.3 单层膜及光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3光学常数的测定 | 第37-39页 |
| 4 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3热稳定性研究 | 第39-46页 |
| 4.1 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3空气中热稳定性研究 | 第39-42页 |
| 4.1.1 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3空气中退火后XRD与AFM表征 | 第39-40页 |
| 4.1.2 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3空气中退火后XRD与Raman表征 | 第40-41页 |
| 4.1.3 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3空气中退火后光学性质变化 | 第41-42页 |
| 4.2 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3真空中热稳定性研究 | 第42-46页 |
| 4.2.1 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3真空中退火后XRD与AFM表征 | 第42-43页 |
| 4.2.2 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3真空中退火后XRD与Raman表征 | 第43-44页 |
| 4.2.3 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3真空中退火后光谱选择性变化 | 第44-46页 |
| 5 光谱选择性吸收涂层SS/Mo/Al_2O_3的色度研究 | 第46-49页 |
| 6 光谱选择性吸收涂层SS/W/Al_2O_3的制备 | 第49-55页 |
| 6.1 织构化单层金属W的制备 | 第49-52页 |
| 6.1.1 织构化单层金属W的SEM与AFM表征 | 第49-51页 |
| 6.1.2 织构化单层金属W的XRD与光学性能表征 | 第51-52页 |
| 6.2 光谱选择性吸收涂层SS/W/Al_2O_3的制备 | 第52-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第61页 |
