摘要 | 第7-9页 |
Abstract | 第9-10页 |
缩略语表 | 第11-13页 |
第一章 绪论 | 第13-31页 |
1.1 引言 | 第13-14页 |
1.2 半导体光催化作用机理 | 第14-16页 |
1.3 影响半导体光催化活性的主要因素 | 第16-19页 |
1.3.1 内部因素 | 第16-18页 |
1.3.2 外部因素 | 第18-19页 |
1.4 提高半导体光催化活性的方法 | 第19-23页 |
1.4.1 离子掺杂 | 第20-21页 |
1.4.2 贵金属沉积 | 第21-22页 |
1.4.3 半导体耦合 | 第22页 |
1.4.4 表面染料敏化 | 第22-23页 |
1.5 g-C_3N_4半导体材料研究进展 | 第23-27页 |
1.5.1 g-C_3N_4的研究背景 | 第23页 |
1.5.2 g-C_3N_4的晶体结构与性质 | 第23-25页 |
1.5.3 g-C_3N_4的制备方法与研究现状 | 第25-27页 |
1.6 其他新型光催化材料研究进展 | 第27-29页 |
1.6.1 石墨烯基材料 | 第27-28页 |
1.6.2 银基化合物材料 | 第28-29页 |
1.7 选题意义及研究内容 | 第29-31页 |
第二章 实验材料及表征测试方法 | 第31-38页 |
2.1 实验材料 | 第31-32页 |
2.1.1 实验主要试剂与原材料 | 第31-32页 |
2.1.2 实验主要仪器 | 第32页 |
2.2 催化剂表征方法 | 第32-36页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
2.2.2 透射电镜(TEM) | 第33页 |
2.2.3 扫描电镜(SEM) | 第33-34页 |
2.2.4 紫外可见漫反射光谱(UV-vis DRS) | 第34页 |
2.2.5 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第34-35页 |
2.2.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第35页 |
2.2.7 荧光光谱(PL) | 第35页 |
2.2.8 氮吸附脱附曲线(N2-BET) | 第35-36页 |
2.3 电化学性能测试 | 第36-37页 |
2.3.1 瞬时光电流(PC) | 第36页 |
2.3.2 电化学阻抗(EIS) | 第36-37页 |
2.4 光催化活性分析 | 第37-38页 |
第三章 rGO/g-C_3N_4/Ag-AgCl三相复合材料的制备及其可控选择性催化降解研究 | 第38-62页 |
3.1 引言 | 第38-39页 |
3.2 实验部分 | 第39-42页 |
3.2.1 光催化材料的制备 | 第39-41页 |
3.2.2 样品表征 | 第41页 |
3.2.3 光催化活性测试 | 第41页 |
3.2.4 光电极制备与电化学性能分析 | 第41-42页 |
3.3 结果与讨论 | 第42-61页 |
3.3.1 相结构分析 | 第42-43页 |
3.3.2 形貌分析 | 第43-45页 |
3.3.3 XPS分析 | 第45-47页 |
3.3.4 FT-IR分析 | 第47-48页 |
3.3.5 UV-vis DRS分析 | 第48-49页 |
3.3.6 荧光光谱分析 | 第49-50页 |
3.3.7 电化学分析 | 第50-51页 |
3.3.8 光催化活性分析 | 第51-54页 |
3.3.9 光催化选择性分析 | 第54-56页 |
3.3.10 光催化机理分析 | 第56-61页 |
3.4 本章总结 | 第61-62页 |
第四章 不同尺寸Ag_2CO_3样品制备及其光催化活性研究 | 第62-73页 |
4.1 引言 | 第62-63页 |
4.2 实验部分 | 第63-64页 |
4.2.1 Ag_2CO_3光催化材料的制备 | 第63-64页 |
4.2.2 样品表征 | 第64页 |
4.2.3 光催化活性测试 | 第64页 |
4.3 结果与讨论 | 第64-72页 |
4.3.1 相结构分析 | 第64-66页 |
4.3.2 形貌分析 | 第66-67页 |
4.3.3 UV-vis DRS分析 | 第67-68页 |
4.3.4 光催化活性分析 | 第68-69页 |
4.3.5 光催化机理分析 | 第69-70页 |
4.3.6 光催化稳定性及腐蚀机理分析 | 第70-72页 |
4.4 本章总结 | 第72-73页 |
第五章 结论与展望 | 第73-75页 |
5.1 结论 | 第73-74页 |
5.2 展望 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-87页 |
硕士期间已发表的研究论文 | 第87-88页 |
致谢 | 第88页 |