太阳能级硅片加工过程中重金属杂质的沾污及其清除机理的研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 前言 | 第10-23页 |
·全球能源形势 | 第10-14页 |
·世界光伏产业发展 | 第10-13页 |
·中国光伏产业发展 | 第13-14页 |
·太阳电池的发展 | 第14-18页 |
·太阳电池的分类 | 第14-16页 |
·单晶硅太阳能电池的制作过程 | 第16-18页 |
·硅片清洗技术概况 | 第18-22页 |
·RC A 清洗技术 | 第18-20页 |
·其他的硅片清洗技术 | 第20-22页 |
·本课题的主要研究内容 | 第22-23页 |
第二章 太阳能级硅片金属污染的来源与检测 | 第23-39页 |
·硅片表面状态与吸附 | 第23-24页 |
·硅片表面金属污染的来源 | 第24-29页 |
·多晶原料的污染 | 第25页 |
·单晶生长过程中的污染 | 第25-26页 |
·工艺环境与设备 | 第26-28页 |
·化学试剂 | 第28页 |
·纯水和其它水溶液 | 第28-29页 |
·金属杂质的危害 | 第29-30页 |
·太阳能级硅片对表面金属杂质含量的要求 | 第30-31页 |
·硅片表面金属污染检测技术 | 第31-39页 |
·全反射X - 射线荧光(TXRF )技术 | 第31-32页 |
·二次离子质谱(SIMS )技术 | 第32-33页 |
·感应耦合等离子质谱(ICP -MS )技术 | 第33-34页 |
·原子吸收光谱的基本原理 | 第34-36页 |
·石墨炉原子吸收(GFAAS )技术 | 第36-38页 |
·各种检测技术检测限对比 | 第38-39页 |
第三章 硅片碱性清洗工艺分析 | 第39-52页 |
·碱性清洗的原理 | 第39-40页 |
·清洗液配比实验 | 第40-41页 |
·实验仪器与试剂 | 第40页 |
·实验方法 | 第40-41页 |
·结果与讨论 | 第41页 |
·碱性清洗液pH 值与时间关系 | 第41-42页 |
·实验方法 | 第41页 |
·实验结果与讨论 | 第41-42页 |
·表面活性剂的作用研究 | 第42-44页 |
·实验方法 | 第43页 |
·实验结果分析 | 第43-44页 |
·超声清洗时间的确定 | 第44-45页 |
·实验方法 | 第44-45页 |
·超声理论分析 | 第45页 |
·清洗工艺整合实验 | 第45-47页 |
·实验方法 | 第45-46页 |
·实验结果分析 | 第46-47页 |
·使用GFAAS 法检测硅片表面金属含量 | 第47-50页 |
·所用材料与设备 | 第47页 |
·实验过程 | 第47-50页 |
·金属杂质与清洗机理分析 | 第50-51页 |
·Cu 在硅片表面状态行为及清洗机理 | 第50-51页 |
·Fe 在硅片表面状态行为与清除机理 | 第51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第四章 砂浆性能与回收次数的关系 | 第52-61页 |
·砂浆回收系统的工作原理 | 第52页 |
·SiC 粒度 | 第52-58页 |
·实验仪器与材料 | 第53页 |
·实验结果分析 | 第53-58页 |
·P EG 性能与回收次数关系研究 | 第58-60页 |
·PEG 粘度的研究 | 第58-59页 |
·砂浆密度/粘度/金属含量的研究 | 第59页 |
·PEG 悬浮性研究 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
第五章 结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第65-66页 |
致谢 | 第66页 |