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太阳能级硅片加工过程中重金属杂质的沾污及其清除机理的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 前言第10-23页
   ·全球能源形势第10-14页
     ·世界光伏产业发展第10-13页
     ·中国光伏产业发展第13-14页
   ·太阳电池的发展第14-18页
     ·太阳电池的分类第14-16页
     ·单晶硅太阳能电池的制作过程第16-18页
   ·硅片清洗技术概况第18-22页
     ·RC A 清洗技术第18-20页
     ·其他的硅片清洗技术第20-22页
   ·本课题的主要研究内容第22-23页
第二章 太阳能级硅片金属污染的来源与检测第23-39页
   ·硅片表面状态与吸附第23-24页
   ·硅片表面金属污染的来源第24-29页
     ·多晶原料的污染第25页
     ·单晶生长过程中的污染第25-26页
     ·工艺环境与设备第26-28页
     ·化学试剂第28页
     ·纯水和其它水溶液第28-29页
   ·金属杂质的危害第29-30页
   ·太阳能级硅片对表面金属杂质含量的要求第30-31页
   ·硅片表面金属污染检测技术第31-39页
     ·全反射X - 射线荧光(TXRF )技术第31-32页
     ·二次离子质谱(SIMS )技术第32-33页
     ·感应耦合等离子质谱(ICP -MS )技术第33-34页
     ·原子吸收光谱的基本原理第34-36页
     ·石墨炉原子吸收(GFAAS )技术第36-38页
     ·各种检测技术检测限对比第38-39页
第三章 硅片碱性清洗工艺分析第39-52页
   ·碱性清洗的原理第39-40页
   ·清洗液配比实验第40-41页
     ·实验仪器与试剂第40页
     ·实验方法第40-41页
     ·结果与讨论第41页
   ·碱性清洗液pH 值与时间关系第41-42页
     ·实验方法第41页
     ·实验结果与讨论第41-42页
   ·表面活性剂的作用研究第42-44页
     ·实验方法第43页
     ·实验结果分析第43-44页
   ·超声清洗时间的确定第44-45页
     ·实验方法第44-45页
     ·超声理论分析第45页
   ·清洗工艺整合实验第45-47页
     ·实验方法第45-46页
     ·实验结果分析第46-47页
   ·使用GFAAS 法检测硅片表面金属含量第47-50页
     ·所用材料与设备第47页
     ·实验过程第47-50页
   ·金属杂质与清洗机理分析第50-51页
     ·Cu 在硅片表面状态行为及清洗机理第50-51页
     ·Fe 在硅片表面状态行为与清除机理第51页
   ·本章小结第51-52页
第四章 砂浆性能与回收次数的关系第52-61页
   ·砂浆回收系统的工作原理第52页
   ·SiC 粒度第52-58页
     ·实验仪器与材料第53页
     ·实验结果分析第53-58页
   ·P EG 性能与回收次数关系研究第58-60页
     ·PEG 粘度的研究第58-59页
     ·砂浆密度/粘度/金属含量的研究第59页
     ·PEG 悬浮性研究第59-60页
   ·本章小结第60-61页
第五章 结论第61-62页
参考文献第62-65页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第65-66页
致谢第66页

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