ITO薄膜红外低发射率机理研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·透明导电（TCO）薄膜及ITO 薄膜介绍 | 第12-17页 |
| ·透明导电薄膜材料 | 第12-13页 |
| ·ITO 薄膜能带及电学结构 | 第13-16页 |
| ·ITO 薄膜材料的应用 | 第16-17页 |
| ·ITO 薄膜国内外研究 | 第17-19页 |
| ·ITO 薄膜的制备 | 第18页 |
| ·ITO 薄膜的性质 | 第18-19页 |
| ·ITO 薄膜发射率研究 | 第19页 |
| ·ITO 薄膜红外低发射率机理研究课题的提出 | 第19-22页 |
| ·课题选择及研究意义 | 第19-20页 |
| ·课题主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 薄膜光学及发射率基础 | 第22-30页 |
| ·薄膜光学基础 | 第22-27页 |
| ·基本光学参数 | 第22-26页 |
| ·Hagen-Rubens 关系 | 第26-27页 |
| ·基本发射率参数及理论 | 第27-30页 |
| ·发射率相关参数 | 第27-28页 |
| ·基尔霍夫定律 | 第28-29页 |
| ·发射率研究方法 | 第29-30页 |
| 第三章 ITO 薄膜样品的制备及性能测试 | 第30-37页 |
| ·薄膜制备 | 第30-33页 |
| ·溅射镀膜装置 | 第30-31页 |
| ·制备原理 | 第31页 |
| ·实验材料及过程 | 第31-33页 |
| ·ITO 薄膜样品相关性能的测试 | 第33-37页 |
| ·ITO 薄膜厚度测量 | 第33页 |
| ·ITO 薄膜晶体结构及表明形貌测试 | 第33页 |
| ·电性能的测试 | 第33-34页 |
| ·可见-近红外波段光学性能测试 | 第34-35页 |
| ·中红外波段光学性能测试 | 第35-37页 |
| 第四章 制备工艺对ITO 薄膜性能的影响 | 第37-60页 |
| ·溅射时间对ITO 薄膜性质的影响 | 第37-45页 |
| ·试验样品制备 | 第37页 |
| ·溅射时间对ITO 薄膜结构性质的影响 | 第37-39页 |
| ·溅射时间对ITO 薄膜电学性质的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射时间对ITO 薄膜光学性质的影响 | 第40-45页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜性质的影响 | 第45-52页 |
| ·试验样品制备 | 第45页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜结构性质的影响 | 第45-46页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜电学性质的影响 | 第46-48页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜光学性质的影响 | 第48-52页 |
| ·溅射气压对ITO 薄膜性质的影响 | 第52-59页 |
| ·试验样品制备 | 第52页 |
| ·溅射气压对ITO 薄膜结构性质的影响 | 第52-54页 |
| ·溅射气压对ITO 薄膜电学性质的影响 | 第54-56页 |
| ·溅射气压对ITO 薄膜光学性质的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 ITO 薄膜红外低发射率机理研究 | 第60-80页 |
| ·ITO 薄膜发射率与电阻率的关系 | 第60-61页 |
| ·ITO 薄膜电学性能与结构的关系 | 第61-72页 |
| ·非晶态ITO 薄膜结构与电性能的关系 | 第61-69页 |
| ·晶态ITO 薄膜结构与电学性能的关系 | 第69-72页 |
| ·ITO 薄膜光学能带结构 | 第72-79页 |
| ·ITO 薄膜能带结构与光电性能的联系 | 第72-76页 |
| ·ITO 薄膜能带结构与表面形貌的联系 | 第76-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第六章 结论 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-87页 |
| 攻硕期间取得的科研成果 | 第87-88页 |
