| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 超导的基本特性 | 第12-14页 |
| 1.2 高温超导材料的发展 | 第14-19页 |
| 1.2.1 超导材料的发展史 | 第14-15页 |
| 1.2.2 高温超导材料 | 第15-16页 |
| 1.2.3 高温超导材料的研发与应用 | 第16-19页 |
| 1.2.3.1 高温超导材料的研发 | 第16-18页 |
| 1.2.3.2 高温超导材料的应用 | 第18-19页 |
| 1.3 Bi系高温超导材料的研究现状 | 第19-26页 |
| 1.3.1 Bi系高温超导材料的结构 | 第20-22页 |
| 1.3.2 Bi系高温超导带材 | 第22-23页 |
| 1.3.3 Bi系高温超导膜 | 第23-26页 |
| 1.3.3.1 Bi系薄膜的制备方法 | 第24-25页 |
| 1.3.3.2 Bi薄膜开发存在的问题 | 第25-26页 |
| 1.4 本工作的研究意义和内容 | 第26-29页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第26-27页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第27-29页 |
| 第2章 薄膜制备与分析方法 | 第29-49页 |
| 2.1 制备方法 | 第29-41页 |
| 2.1.1 溶胶-凝胶法 | 第29-31页 |
| 2.1.2 Pechini溶胶-凝胶法 | 第31-34页 |
| 2.1.3 基底的选择 | 第34-35页 |
| 2.1.4 薄膜的制备 | 第35-40页 |
| 2.1.5 薄膜的外延生长 | 第40-41页 |
| 2.2 分析方法 | 第41-49页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第42-45页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第45-46页 |
| 2.2.3 原子力显微镜 | 第46-47页 |
| 2.2.4 电输运测试系统 | 第47页 |
| 2.2.5 标准四引线法 | 第47-49页 |
| 第3章 Pechini sol-gel法制备外延生长Bi2212薄膜 | 第49-65页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 前驱膜的制备 | 第50-53页 |
| 3.2.1 物相分析 | 第50-52页 |
| 3.2.2 表面形貌 | 第52-53页 |
| 3.3 薄膜的制备 | 第53-60页 |
| 3.3.1 烧结温度对相成分的影响 | 第53-55页 |
| 3.3.2 烧结时间对相成分的影响 | 第55-57页 |
| 3.3.3 成相区 | 第57-59页 |
| 3.3.4 表面形貌 | 第59-60页 |
| 3.4 薄膜生长机制的讨论 | 第60-62页 |
| 3.5 薄膜超导性质的研究 | 第62-64页 |
| 3.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第4章 升温速率对Bi2212薄膜物相及表面形貌的影响 | 第65-81页 |
| 4.1 预烧结升温速率对薄膜的影响 | 第65-73页 |
| 4.1.1 对前驱膜的相成分及形貌的影响 | 第65-69页 |
| 4.1.2 对薄膜的相组成及形貌的影响 | 第69-72页 |
| 4.1.3 对薄膜超导性能的影响 | 第72-73页 |
| 4.2 烧结升温速率对薄膜的影响 | 第73-79页 |
| 4.2.1. 对薄膜的相成分的影响 | 第73-75页 |
| 4.2.2 对薄膜的形貌的影响 | 第75-78页 |
| 4.2.3 对薄膜超导性能的影响 | 第78-79页 |
| 4.3 本章小结 | 第79-81页 |
| 第5章 基底对Bi2212薄膜结晶状态和超导性能的影响 | 第81-98页 |
| 5.1 Bi2212/LaAlO_3薄膜的生长 | 第81-87页 |
| 5.1.1 薄膜的成相区 | 第81-85页 |
| 5.1.2 薄膜的表面形貌 | 第85-86页 |
| 5.1.3 薄膜的超导性能的研究 | 第86-87页 |
| 5.2 Bi2212/MgO薄膜的生长 | 第87-95页 |
| 5.2.1 薄膜的成相区 | 第88-93页 |
| 5.2.2 薄膜的表面形貌 | 第93-94页 |
| 5.2.3 薄膜的超导性能的研究 | 第94-95页 |
| 5.3 基底对Bi2212薄膜的生长的影响 | 第95-97页 |
| 5.4 本章小结 | 第97-98页 |
| 第6章 Bi2212薄膜与基底间错配应变对其性能影响的探索研究 | 第98-116页 |
| 6.1 引言 | 第98-99页 |
| 6.2 薄膜与基底间的晶格错配 | 第99-107页 |
| 6.2.1 薄膜与基底的面内取向关系的表征 | 第99-102页 |
| 6.2.2 薄膜与基底间的晶格错配分析 | 第102-107页 |
| 6.3 Bi2212薄膜的应变与厚度的关系 | 第107-113页 |
| 6.3.1 Bi2212/MgO薄膜的应变与厚度的关系 | 第107-110页 |
| 6.3.2 Bi2212/STO薄膜的应变与厚度的关系 | 第110-112页 |
| 6.3.3 Bi2212/LAO薄膜的应变与厚度的关系 | 第112-113页 |
| 6.4 错配应变对Bi2212薄膜超导性能的影响 | 第113-115页 |
| 6.5 本章小结 | 第115-116页 |
| 第7章 结论 | 第116-118页 |
| 参考文献 | 第118-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 攻读博士学位期间已发表和在投论文 | 第131页 |
