| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 氧化锌纳米结构的发展及应用 | 第11-13页 |
| 1.3 氧化锌薄膜材料特性与研究现状 | 第13-15页 |
| 1.4 氧化锌纳米颗粒与薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.5 本文的研究内容及意义 | 第17-19页 |
| 第2章 实验原理与方法 | 第19-30页 |
| 2.1 实验原理 | 第19-22页 |
| 2.1.1 Si的晶体结构 | 第19-20页 |
| 2.1.2 ZnO的晶体结构与特性 | 第20-22页 |
| 2.2 实验方法 | 第22-25页 |
| 2.2.1 硅(Si)片刻蚀 | 第22-23页 |
| 2.2.2 水热法 | 第23页 |
| 2.2.3 反胶束微乳液法 | 第23-24页 |
| 2.2.4 化学浴沉积法 | 第24-25页 |
| 2.3 实验仪器及样品的表征方法与原理 | 第25-30页 |
| 2.3.1 实验仪器 | 第25页 |
| 2.3.2 X射线衍射 | 第25-26页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| 2.3.4 X射线能量色散谱 | 第27-28页 |
| 2.3.5 原子力显微镜 | 第28-29页 |
| 2.3.6 红外光谱分析仪 | 第29-30页 |
| 第3章 ZnO微米管与纳米棒的制备 | 第30-54页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 实验过程 | 第31-33页 |
| 3.2.1 前驱溶液的配置 | 第31-32页 |
| 3.2.2 水热反应及样品后处理 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-52页 |
| 3.3.1 ZnO微米管的制备 | 第33-34页 |
| 3.3.2 制备ZnO纳米棒的表面活性剂选择 | 第34-38页 |
| 3.3.3 表面活性剂的量对ZnO纳米棒的影响 | 第38-43页 |
| 3.3.4 反应时间对ZnO纳米棒的影响 | 第43-49页 |
| 3.3.5 反应温度对ZnO纳米棒的影响 | 第49-51页 |
| 3.3.6 ZnO纳米棒的生长机制的探讨 | 第51-52页 |
| 3.4 本章结论 | 第52-54页 |
| 第4章 a轴取向ZnO薄膜的制备与纳米棒极性面刻蚀 | 第54-80页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 实验过程 | 第55-60页 |
| 4.2.1 Si衬底的刻蚀 | 第55-57页 |
| 4.2.2 ZnO种子层的制备 | 第57-58页 |
| 4.2.3 化学浴沉积法前驱溶液的配置 | 第58-59页 |
| 4.2.4 刻蚀ZnO纳米棒的样品制备 | 第59-60页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第60-78页 |
| 4.3.1 刻蚀Si样品的结果与分析 | 第60-62页 |
| 4.3.2 种子层的形貌分析 | 第62-67页 |
| 4.3.3 制备非极性ZnO薄膜的初步探索 | 第67-72页 |
| 4.3.4 非极性ZnO薄膜生长机理的探讨 | 第72-73页 |
| 4.3.5 ZnO纳米棒极性面刻蚀的初步探索 | 第73-78页 |
| 4.4 本章结论 | 第78-80页 |
| 第5章 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-92页 |
| 致谢 | 第92页 |