首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--半导体三极管(晶体管)论文--晶体管:按性能分论文

与HBT工艺兼容的四类新型三端负阻器件的研制与研究

第一章 绪论第8-31页
    1.1 课题研究背景第8-10页
    1.2 负阻器件的分类与历史第10-13页
    1.3 HBT概念和设计基础第13-22页
        1.3.1 HBT的理论基础第13-17页
        1.3.2 HBT的设计规则第17-18页
        1.3.3 HBT的材料系统第18-21页
        1.3.4 HBT的典型结构第21-22页
    1.4 分子束外延生长技术第22-25页
    1.5 器件模拟与ATLAS软件第25-29页
    1.6 本论文的研究工作概述第29-31页
第二章 超薄基区负阻HBT的研制与模拟分析第31-54页
    2.1 研究背景第31-34页
    2.2 超薄基区HBT材料结构设计第34-35页
    2.3 超薄基区HBT的器件结构和版图设计第35-36页
    2.4 超薄基区HBT工艺流程设计第36-41页
        2.4.1 InGaP/GaAs超薄基区HBT工艺流程设计第36-38页
        2.4.2 AlGaAs/GaAs超薄基区负阻HBT工艺流程第38页
        2.4.3 对关键工艺的说明第38-41页
            2.4.3.1 湿法选择性腐蚀工艺第38-40页
            2.4.3.2 腐蚀监测工艺第40-41页
            2.4.3.3 合金条件的把握第41页
    2.5 超薄基区HBT的性能测试第41-47页
        2.5.1 InGaP/GaAs 超薄基区HBT的I-V特性第42-46页
            2.5.1.1 电压控制型负阻特性第42-44页
            2.5.1.2 随VC变化的电压控制型负阻特性第44-45页
            2.5.1.3 电流控制型负阻特性第45-46页
        2.5.2 AlGaAs/GaAs超薄基区HBT的I-V特性第46-47页
    2.6 超薄基区负阻HBT的器件模拟与负阻机制分析第47-50页
    2.7 对负阻特性产生机制的分析与解释第50-54页
        2.7.1 超薄基区产生负阻的物理机制第50-51页
        2.7.2 对恒定V_B和恒定I_B两种模式负阻的解释第51-52页
        2.7.3 对低H_(FE)器件负阻特性沿V_C分散现象的解释第52页
        2.7.4 I_P随V_C增加而增大现象产生的原因第52-54页
第三章 双基区负阻HBT的设计与研制第54-73页
    3.1 SI基平面双基区晶体管的研究进展第54-56页
    3.2 基区负阻HBT的材料结构、器件结构和版图设计第56-59页
        3.2.1 材料结构设计第56-57页
        3.2.2 器件结构设计第57-58页
        3.2.3 版图设计第58-59页
    3.3 双基区负阻HBT的工艺流水第59-61页
    3.4 双基区负阻HBT的性能测试与分析第61-68页
        3.4.1 常规HBT的I-V特性第61-62页
        3.4.2 双基区负阻HBT的电压控制型负阻特性第62-65页
        3.4.3 双基区负阻HBT的可变电压控制型负阻特性第65-67页
        3.4.4 双基区负阻HBT的光电负阻特性第67-68页
    3.5 双基区负HBT的器件模拟第68-70页
    3.6 关于双基区负阻HBT特性的分析与讨论第70-73页
        3.6.1 电压控制型负阻的表现形式多样化分析第70-71页
        3.6.2 负阻与V_C的关系分析第71页
        3.6.3 光控负阻特性产生原因分析第71-73页
第四章 电阻栅负阻HBT的研制与理论分析第73-85页
    4.1 电阻栅负阻HBT的研究背景第73-74页
    4.2 电阻栅负阻HBT的器件结构和版图设计第74-76页
    4.3 器件工艺流水第76-77页
    4.4 器件性能测试与分析第77-79页
    4.5 器件模拟和负阻机制分析第79-81页
    4.6 器件物理模型的建立第81-85页
第五章 化合物S型双向负阻晶体管的研制第85-94页
    5.1 双向负阻晶体管的工作机理分析第85-88页
    5.2 化合物S型双向负阻晶体管的设计第88-90页
    5.3 化合物S型双向负阻晶体管的工艺流水第90-91页
    5.4 化合物S型双向负阻晶体管的性能测试与分析第91-94页
第六章 研究成果总结第94-96页
参考文献第96-105页
攻读博士学位期间发表论文情况第105-106页
参加科研情况说明第106-107页
附录第107-114页
致谢第114页

论文共114页,点击 下载论文
上一篇:泊位淤积知识及其在清淤工程管理中的应用研究
下一篇:神经模糊分类器和模糊图象处理研究