摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第13-28页 |
1.1 太阳电池的研究背景与意义 | 第13-14页 |
1.2 太阳电池的发展历史与前景 | 第14-19页 |
1.2.1 太阳电池的发展历史 | 第14-16页 |
1.2.2 几种高效晶硅太阳电池 | 第16-19页 |
1.3 晶硅太阳电池技术简介 | 第19-21页 |
1.3.1 晶硅太阳电池的工作原理简介 | 第19-20页 |
1.3.2 晶硅太阳电池的制备工艺 | 第20-21页 |
1.4 晶硅材料钝化的研究现状 | 第21-23页 |
1.5 晶硅太阳电池光致衰减效应的研究现状 | 第23-26页 |
1.5.1 光致衰减效应的机理研究 | 第24-26页 |
1.5.2 光致衰减效应的抑制方法 | 第26页 |
1.6 本课题的研究内容 | 第26-28页 |
第二章 实验设备及性能表征 | 第28-40页 |
2.1 实验设备 | 第28-32页 |
2.1.1 电池生产线 | 第28-29页 |
2.1.2 等离子体增强化学气相沉积仪(PECVD) | 第29-30页 |
2.1.3 原子层沉积仪(ALD) | 第30-31页 |
2.1.4 快速热处理(RTP)系统 | 第31-32页 |
2.1.5 光衰和再生态转变处理装置 | 第32页 |
2.2 性能表征 | 第32-40页 |
2.2.1 WT2000少子寿命测试仪 | 第33页 |
2.2.2 GLM2000体少子寿命测试仪 | 第33-34页 |
2.2.3 四探针方阻测试仪 | 第34-35页 |
2.2.4 量子效率测试仪 | 第35页 |
2.2.5 椭偏仪 | 第35-36页 |
2.2.6 紫外可见分光光度计 | 第36-37页 |
2.2.7 非接触界面电学性能表征系统 | 第37-38页 |
2.2.8 EL热成像缺陷检测仪 | 第38页 |
2.2.9 I-V特性测试仪 | 第38-40页 |
第三章 晶硅表面的钝化性能研究 | 第40-57页 |
3.1 引言 | 第40页 |
3.2 PECVD-SiN_x对单晶硅表面的钝化性能研究 | 第40-46页 |
3.2.1 实验方法 | 第41-42页 |
3.2.2 退火温度对PECVD-SiN_x钝化性能的影响 | 第42-44页 |
3.2.3 退火时间对PECVD-SiN_x钝化性能的影响 | 第44页 |
3.2.4 PECVD-SiN_x厚度对钝化性能的影响 | 第44-46页 |
3.3 ALD-Al_2O_3对单晶硅表面的钝化性能研究 | 第46-52页 |
3.3.1 实验方法 | 第47页 |
3.3.2 退火温度对ALD-Al_2O_3钝化性能的影响 | 第47-48页 |
3.3.3 退火时间对ALD-Al_2O_3钝化性能的影响 | 第48-51页 |
3.3.4 ALD-Al_2O_3薄膜厚度对钝化性能的影响 | 第51-52页 |
3.4 Al_2O_3/SiN_x双层包覆寿命片对单晶硅表面的钝化性能研究 | 第52-55页 |
3.4.1 退火温度对Al_2O_3/SiN_x钝化性能的影响 | 第52-55页 |
3.4.2 退火时间对Al_2O_3/SiN_x钝化性能的影响 | 第55页 |
3.5 本章小结 | 第55-57页 |
第四章 晶硅太阳电池的光致衰减效应研究 | 第57-69页 |
4.1 引言 | 第57-58页 |
4.2 各种寿命片的光致衰减效应研究 | 第58-62页 |
4.2.1 实验方法 | 第58页 |
4.2.2 实验结果与讨论 | 第58-62页 |
4.3 各种电池片的光致衰减效应研究 | 第62-65页 |
4.3.1 实验方法 | 第62-63页 |
4.3.2 实验结果与讨论 | 第63-65页 |
4.4 退火处理后电池性能恢复的研究 | 第65-68页 |
4.4.1 实验方法 | 第66页 |
4.4.2 实验结果与讨论 | 第66-68页 |
4.5 本章小结 | 第68-69页 |
第五章 晶硅太阳电池光致衰减效应抑制方法的研究 | 第69-83页 |
5.1 引言 | 第69页 |
5.2 晶硅掺镓对太阳电池光致衰减效应的影响 | 第69-76页 |
5.2.1 实验方法 | 第70-71页 |
5.2.2 寿命片少子寿命变化 | 第71-72页 |
5.2.3 电池电学性能分析 | 第72-76页 |
5.3 再生处理对太阳电池光致衰减效应的影响 | 第76-82页 |
5.3.1 再生处理对寿命片光致衰减效应的影响 | 第77-80页 |
5.3.2 再生处理对电池片光致衰减效应的影响 | 第80-82页 |
5.4 本章小结 | 第82-83页 |
第六章 总结与展望 | 第83-85页 |
6.1 总结 | 第83-84页 |
6.2 展望 | 第84-85页 |
参考文献 | 第85-92页 |
致谢 | 第92-93页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第93页 |