| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第10-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-21页 |
| 1.2.1 激光作用下参与性介质辐射传输理论研究 | 第15-18页 |
| 1.2.2 荧光扩散光学成像技术研究 | 第18-21页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 超短脉冲激光入射非均匀参与性介质的出射荧光信号模拟 | 第23-50页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 激光照射下荧光的产生机理及基本表征参量 | 第23-26页 |
| 2.2.1 荧光的产生机理 | 第24-25页 |
| 2.2.2 荧光的基本表征参量 | 第25-26页 |
| 2.3 扩散近似方程 | 第26-28页 |
| 2.3.1 控制方程 | 第26-27页 |
| 2.3.2 定解条件 | 第27-28页 |
| 2.4 扩散近似方程的求解方法 | 第28-35页 |
| 2.4.1 扩散近似方程的解析解法—格林函数法 | 第28-30页 |
| 2.4.2 扩散近似方程的数值解法 | 第30-35页 |
| 2.5 时域耦合扩散方程组 | 第35页 |
| 2.6 正确性和网格无关性以及时间独立性验证 | 第35-42页 |
| 2.6.1 正确性验证 | 第36-38页 |
| 2.6.2 网格无关性验证 | 第38-40页 |
| 2.6.3 时间独立性验证 | 第40-42页 |
| 2.7 其他因素对出射荧光信号的影响 | 第42-49页 |
| 2.7.1 入射激光脉冲宽度的影响 | 第42-44页 |
| 2.7.2 背景介质光学参数的影响 | 第44-45页 |
| 2.7.3 介质内含荧光异质体大小的影响 | 第45-46页 |
| 2.7.4 介质内含荧光异质体位置的影响 | 第46-47页 |
| 2.7.5 介质内含异质体光学参数的影响 | 第47-49页 |
| 2.8 本章小结 | 第49-50页 |
| 第3章 基于瞬态耦合扩散方程组的二维矩形域荧光成像方法研究 | 第50-73页 |
| 3.1 引言 | 第50页 |
| 3.2 二维矩形介质中出射荧光信号的正向模拟 | 第50-55页 |
| 3.2.1 含单个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第51-52页 |
| 3.2.2 含两个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第52-53页 |
| 3.2.3 含三个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第53-54页 |
| 3.2.4 含四个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第54-55页 |
| 3.3 二维矩形介质中荧光产率的重建研究 | 第55-63页 |
| 3.3.1 逆向问题研究 | 第55-58页 |
| 3.3.2 二维矩形介质中荧光产率的重建 | 第58-63页 |
| 3.4 介质中含不同数目荧光体时荧光产率和荧光寿命的同时重建 | 第63-72页 |
| 3.4.1 含单个荧光体时的同时重建研究 | 第63-69页 |
| 3.4.2 含两个荧光体时的同时重建研究 | 第69-70页 |
| 3.4.3 含三个荧光体时的同时重建研究 | 第70-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 第4章 基于瞬态耦合扩散方程组的二维圆形域荧光成像方法研究 | 第73-91页 |
| 4.1 引言 | 第73页 |
| 4.2 二维圆形介质中出射荧光信号的正向模拟研究 | 第73-78页 |
| 4.2.1 含单个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第74-75页 |
| 4.2.2 含两个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第75-76页 |
| 4.2.3 含三个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第76-77页 |
| 4.2.4 含四个荧光体时出射荧光信号的模拟 | 第77-78页 |
| 4.3 二维圆形介质中荧光产率的重建研究 | 第78-81页 |
| 4.3.1 含单个荧光体时的重建 | 第78-79页 |
| 4.3.2 含两个荧光体时的重建 | 第79-80页 |
| 4.3.3 含三个荧光体时的重建 | 第80-81页 |
| 4.4 介质中含不同数目荧光体时荧光产率和荧光寿命的同时重建 | 第81-90页 |
| 4.4.1 含单个荧光体时的同时重建研究 | 第81-87页 |
| 4.4.2 含两个荧光体时的同时重建研究 | 第87-89页 |
| 4.4.3 含三个荧光体时的同时重建研究 | 第89-90页 |
| 4.5 本章小结 | 第90-91页 |
| 结论 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-98页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100页 |
